Übersetzung für "Massenflussregler" in Englisch
																						Der
																											Stickstofffluss
																											wurde
																											über
																											einen
																											Massenflussregler
																											eingestellt
																											und
																											konstant
																											gehalten.
																		
			
				
																						The
																											nitrogen
																											flow
																											was
																											adjusted
																											via
																											a
																											flux
																											regulator
																											and
																											kept
																											constant.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Zufluss
																											der
																											einströmenden
																											Gase
																											wird
																											über
																											Massenflussregler
																											7
																											gesteuert.
																		
			
				
																						The
																											admission
																											of
																											the
																											in-flowing
																											gases
																											is
																											controlled
																											by
																											mass
																											flow
																											regulators
																											7
																											.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Über
																											einen
																											Massenflussregler
																											wurde
																											die
																											flüssige
																											Phase
																											in
																											den
																											Reaktor
																											R2
																											dosiert.
																		
			
				
																						By
																											means
																											of
																											a
																											mass
																											flow
																											regulator,
																											the
																											liquid
																											phase
																											was
																											metered
																											into
																											reactor
																											R2.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											nebenstehende
																											Bedienoberfläche
																											ist
																											für
																											drei
																											Massenflussregler
																											ausgelegt.
																		
			
				
																						The
																											adjacent
																											operating
																											interface
																											is
																											designed
																											for
																											three
																											mass
																											flow
																											controllers.
															 
				
		 CCAligned v1
			
																						Das
																											Mischungsverhältnis
																											der
																											Gase
																											wird
																											über
																											die
																											Massenflussregler
																											7
																											gesteuert.
																		
			
				
																						The
																											gas
																											mixture
																											ratio
																											is
																											controlled
																											by
																											the
																											mass
																											flow
																											regulator
																											7
																											.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											einer
																											bevorzugten
																											Ausgestaltung
																											der
																											letztgenannten
																											Ausführungsform
																											nimmt
																											der
																											Massenflussregler
																											auch
																											das
																											Grundausgangssignal
																											entgegen.
																		
			
				
																						In
																											one
																											further
																											embodiment
																											of
																											the
																											latter
																											embodiment,
																											the
																											mass
																											flow
																											regulator
																											also
																											receives
																											the
																											basic
																											output
																											signal.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											Prozessgase
																											und
																											das
																											Trägergas
																											werden
																											über
																											Massenflussregler
																											26,
																											denen
																											Ventile
																											vorgeschaltet
																											sind,
																											dosiert.
																		
			
				
																						The
																											process
																											gases
																											and
																											the
																											carrier
																											gas
																											are
																											metered
																											by
																											way
																											of
																											mass
																											flow
																											controllers
																											26,
																											the
																											valves
																											of
																											which
																											are
																											upstream.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Über
																											einen
																											Massenflussregler
																											wurden
																											kontinuierlich
																											20
																											g/h
																											Propylenoxid
																											in
																											Reaktor
																											R1
																											dosiert.
																		
			
				
																						20
																											g/h
																											of
																											propylene
																											oxide
																											were
																											metered
																											continuously
																											into
																											reactor
																											R1
																											via
																											a
																											mass
																											flow
																											regulator.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Anhand
																											der
																											Erfassung
																											der
																											Spektren
																											und/oder
																											Emissionslinien
																											kann
																											unter
																											anderem
																											vorteihaft
																											auch
																											die
																											zeitliche
																											Steuerung
																											der
																											Ventile,
																											Massenflussregler
																											und/oder
																											die
																											Druckregelung
																											nachgeregelt
																											werden.
																		
			
				
																						Due
																											to
																											the
																											acquisition
																											of
																											the
																											spectra
																											and/or
																											emission
																											lines,
																											it
																											is
																											also
																											possible,
																											inter
																											alia,
																											advantageously
																											to
																											correct
																											the
																											temporal
																											control
																											of
																											the
																											valves,
																											the
																											mass
																											flow
																											regulators
																											and/or
																											the
																											pressure
																											regulation.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											dort
																											ablaufende
																											Gasmaster-Software
																											steuert
																											neben
																											der
																											Visualisierung
																											und
																											dem
																											Dialog
																											mit
																											dem
																											Benutzer,
																											die
																											Massenflussregler.
																		
			
				
																						Besides
																											visualization
																											and
																											user
																											dialog,
																											the
																											run-time
																											software
																											controls
																											the
																											mass
																											flow.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Der
																											kompakte
																											MFC
																											2172
																											Massenflussregler
																											von
																											Axetris
																											mit
																											EtherCAT-Schnittstelle
																											beruht
																											auf
																											der
																											von
																											Axetris
																											selbst
																											entwickelten
																											Plating-MEMS-Technologie
																											(MEMS:
																											Micro
																											Electro-Mechanical
																											Systems).
																		
			
				
																						The
																											Axetris
																											compact
																											mass
																											flow
																											controller
																											MFC
																											2172
																											with
																											EtherCAT
																											interface
																											is
																											based
																											on
																											the
																											proprietary
																											Platinum
																											MEMS
																											technology
																											from
																											Axetris
																											(MEMS:
																											Micro
																											Electro-Mechanical
																											Systems).
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Gemäß
																											FIG
																											2
																											kann
																											-
																											gegebenenfalls
																											alternativ,
																											im
																											Regelfall
																											zusätzlich
																											-
																											zu
																											der
																											obenstehend
																											beschriebenen
																											Ausgestaltung
																											des
																											erfindungsgemäßen
																											Grundprinzips
																											die
																											Steuereinrichtung
																											5
																											einen
																											Massenflussregler
																											10
																											aufweisen.
																		
			
				
																						According
																											to
																											FIG.
																											2,
																											possibly
																											alternatively
																											but
																											generally
																											additionally,
																											the
																											control
																											device
																											5
																											can
																											have
																											a
																											mass
																											flow
																											regulator
																											10
																											for
																											the
																											above-described
																											refinement
																											of
																											the
																											basic
																											principle
																											according
																											to
																											various
																											embodiments.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Von
																											Vorteil
																											ist,
																											dass
																											das
																											weitere
																											Gaszufuhrmittel,
																											das
																											einen
																											weiteren
																											Massenflussregler
																											umfasst,
																											eine
																											Zuführung
																											des
																											Gases
																											ausgewählt
																											aus
																											der
																											Gruppe
																											umfassend
																											Cl
																											2
																											und/oder
																											HCl,
																											das
																											dem
																											Plasmareaktor,
																											dem
																											Gasauslass
																											und/oder
																											der
																											Prozesskammer
																											zugeführt
																											wird,
																											einstellbar
																											ist.
																		
			
				
																						It
																											is
																											advantageous
																											that
																											the
																											supply
																											of
																											the
																											gas
																											selected
																											from
																											the
																											group
																											including
																											Cl
																											2
																											and/or
																											HCl,
																											which
																											is
																											supplied
																											to
																											the
																											plasma
																											reactor,
																											the
																											gas
																											outlet,
																											and/or
																											the
																											process
																											chamber,
																											is
																											adjustable
																											via
																											another
																											gas
																											supply
																											arrangement,
																											which
																											includes
																											another
																											mass
																											flow
																											regulator.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Ein
																											weiterer
																											Gegenstand
																											der
																											vorliegenden
																											Erfindung
																											betrifft
																											eine
																											Vorrichtung
																											zur
																											Durchführung
																											des
																											erfindungsgemäßen
																											Verfahrens,
																											wobei
																											einer
																											Vorrichtung
																											zur
																											Herstellung
																											des
																											Ätzgases
																											beispielsweise
																											ClF
																											3
																											eine
																											Prozesskammer
																											zugeordnet
																											ist,
																											die
																											über
																											einen
																											Gaseinlass
																											mit
																											dem
																											Plasmareaktor
																											verbunden
																											ist,
																											wobei
																											das
																											Halbleitersubstrat
																											in
																											der
																											Prozesskammer
																											angeordnet
																											und
																											dem
																											von
																											der
																											Vorrichtung
																											zur
																											Erzeugung
																											von
																											Chlortrifluorid
																											erzeugten
																											gasförmigen
																											Chlortrifluorid
																											ausgesetzt
																											ist,
																											wobei
																											die
																											Vorrichtung
																											ein
																											weiteres
																											Gaszufuhrmittel
																											aufweist,
																											das
																											einen
																											weiteren
																											Massenflussregler
																											umfasst,
																											mit
																											der
																											die
																											Zufuhr
																											des
																											Gases
																											ausgewählt
																											aus
																											der
																											Gruppe
																											umfassend
																											Cl
																											2
																											und/oder
																											HCl,
																											das
																											dem
																											Plasmareaktor,
																											dem
																											Gasauslass
																											des
																											Plasmareaktors
																											und/oder
																											einem
																											Gaseinlass
																											der
																											Prozesskammer
																											zugeführt
																											wird,
																											einstellbar
																											ist.
																		
			
				
																						Another
																											subject
																											matter
																											of
																											the
																											exemplary
																											embodiments
																											and/or
																											exemplary
																											methods
																											of
																											the
																											present
																											invention
																											relates
																											to
																											a
																											device
																											for
																											carrying
																											out
																											the
																											method
																											according
																											to
																											the
																											present
																											invention,
																											a
																											device
																											for
																											producing
																											the
																											etching
																											gas,
																											for
																											example,
																											ClF
																											3
																											being
																											associated
																											with
																											a
																											process
																											chamber,
																											which
																											is
																											connected
																											to
																											the
																											plasma
																											reactor
																											via
																											a
																											gas
																											inlet,
																											the
																											semiconductor
																											substrate
																											being
																											situated
																											in
																											the
																											process
																											chamber
																											and
																											exposed
																											to
																											the
																											gaseous
																											chlorine
																											trifluoride
																											produced
																											by
																											the
																											device
																											for
																											producing
																											chlorine
																											trifluoride,
																											the
																											device
																											having
																											an
																											additional
																											gas
																											supply
																											arrangement,
																											which
																											includes
																											another
																											mass
																											flow
																											regulator,
																											using
																											which
																											the
																											feed
																											of
																											gas
																											selected
																											from
																											the
																											group
																											including
																											Cl
																											2
																											and/or
																											HCl,
																											which
																											is
																											supplied
																											to
																											the
																											plasma
																											reactor,
																											the
																											gas
																											outlet
																											of
																											the
																											plasma
																											reactor,
																											and/or
																											a
																											gas
																											inlet
																											of
																											the
																											process
																											chamber,
																											may
																											be
																											adjusted.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Auch
																											die
																											Zuleitung
																											17
																											ist
																											mittels
																											eines
																											Ventils
																											19
																											absperrbar
																											und
																											der
																											Gasfluss
																											durch
																											diese
																											Leitung
																											17
																											ist
																											mit
																											einem
																											Massenflussregler
																											21
																											geregelt.
																		
			
				
																						The
																											supply
																											line
																											17
																											can
																											also
																											be
																											shut
																											by
																											means
																											of
																											a
																											valve
																											19,
																											and
																											the
																											gas
																											flow
																											through
																											this
																											line
																											17
																											is
																											regulated
																											with
																											the
																											aid
																											of
																											a
																											mass
																											flow
																											regulator
																											21
																											.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Weiterhin
																											kann
																											dem
																											Ätzgas
																											ClF
																											3
																											zusätzlich
																											ein
																											zweiter
																											Chlorgasstrom
																											über
																											den
																											Massenflussregler
																											23
																											in
																											die
																											Gaszuleitung
																											20
																											und/oder
																											über
																											eine
																											separate
																											Zuleitung
																											24
																											direkt
																											in
																											die
																											Prozesskammer
																											zugesetzt
																											werden.
																		
			
				
																						Furthermore,
																											a
																											second
																											chlorine
																											gas
																											stream
																											may
																											be
																											additionally
																											added
																											to
																											the
																											ClF
																											3
																											etching
																											gas
																											into
																											gas
																											feed
																											20
																											via
																											mass
																											flow
																											regulator
																											23
																											and/or
																											directly
																											into
																											the
																											process
																											chamber
																											via
																											a
																											separate
																											feed
																											24
																											.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											bevorzugter
																											Weise
																											wird
																											Chlor
																											und/oder
																											Chlorwasserstoff
																											beispielsweise
																											über
																											einen
																											zweiten
																											Massenflussregler,
																											insbesondere
																											unterhalb
																											der
																											Plasmaerzeugung
																											des
																											Ätzgases,
																											beispielsweise
																											ClF
																											3,
																											dein
																											gebildeten
																											Ätzgas
																											zugeführt,
																											während
																											die
																											Plasmaerzeugung
																											von
																											ClF
																											3
																											selbst
																											annähernd
																											stöchiometrisch
																											oder
																											nur
																											mit
																											einem
																											leichten
																											Chlorüberschuss
																											abläuft.
																		
			
				
																						Chlorine
																											and/or
																											hydrogen
																											chloride
																											may
																											be
																											supplied
																											to
																											the
																											formed
																											etching
																											gas,
																											via
																											a
																											second
																											mass
																											flow
																											regulator,
																											for
																											example,
																											in
																											particular
																											in
																											a
																											quantity
																											less
																											than
																											that
																											required
																											for
																											the
																											plasma
																											production
																											of
																											the
																											etching
																											gas,
																											for
																											example,
																											ClF
																											3,
																											while
																											plasma
																											production
																											of
																											ClF
																											3
																											itself
																											takes
																											place
																											approximately
																											stoichiometrically
																											or
																											at
																											a
																											slight
																											excess
																											of
																											chlorine.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Diese
																											Strömungskanäle
																											sind
																											über
																											Zuleitungen,
																											Massenflussregler
																											und
																											Ventile
																											mit
																											Vorratsbehältern
																											verbunden,
																											in
																											denen
																											das
																											Trägergas
																											und
																											die
																											Prozessgase
																											bevorratet
																											werden.
																		
			
				
																						These
																											flow
																											channels
																											are
																											connected
																											via
																											feed
																											lines,
																											mass
																											flow
																											regulators
																											and
																											valves,
																											with
																											reservoirs
																											in
																											which
																											the
																											carrier
																											gas
																											and
																											the
																											process
																											gases
																											are
																											stored.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Nach
																											4,5
																											Stunden
																											wurden
																											über
																											einen
																											Massenflussregler
																											kontinuierlich
																											55,85
																											g/h
																											Propylenoxid
																											in
																											Reaktor
																											R2
																											dosiert.
																		
			
				
																						After
																											4.5
																											hours,
																											55.85
																											g/h
																											of
																											propylene
																											oxide
																											were
																											metered
																											continuously
																											into
																											reactor
																											R2
																											via
																											a
																											mass
																											flow
																											regulator.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Diese
																											Anlage
																											weist
																											eine
																											Reaktionskammer
																											mit
																											einer
																											Einlassöffnung
																											auf,
																											in
																											der
																											die
																											Prozessgase
																											beispielsweise
																											durch
																											Massenflussregler
																											gesteuert
																											der
																											Reaktionskammer
																											zugeführt
																											werden
																											können.
																		
			
				
																						The
																											installation
																											has
																											a
																											reaction
																											chamber
																											with
																											an
																											inlet
																											opening
																											in
																											which
																											the
																											process
																											gases
																											can
																											be
																											supplied
																											in
																											a
																											controlled
																											manner
																											to
																											the
																											reaction
																											chamber,
																											for
																											example
																											by
																											mass
																											flow
																											controllers.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											einer
																											alternativen
																											zweiten
																											Verfahrensführung
																											wird
																											der
																											zweite
																											Massenflussregler
																											30
																											über
																											die
																											Steuereinheit
																											17
																											gemäß
																											Figur
																											2
																											zusätzlich
																											mit
																											der
																											Steuerung
																											der
																											Ventile
																											27,
																											28
																											synchronisiert
																											getaktet.
																		
			
				
																						In
																											a
																											second
																											variation
																											of
																											the
																											method
																											according
																											to
																											the
																											present
																											invention,
																											second
																											mass
																											flow
																											regulator
																											30
																											is
																											additionally
																											cycled
																											in
																											synchronization
																											with
																											the
																											control
																											of
																											valves
																											27,
																											28
																											via
																											control
																											unit
																											17
																											according
																											to
																											FIG.
																											2
																											.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Erst
																											nach
																											Ablaufen
																											der
																											Wartezeit
																											t
																											2
																											-t
																											L
																											nach
																											dem
																											Beginn
																											des
																											Ätzschritts
																											wird
																											dann
																											der
																											zweite
																											Massenflussregler
																											30
																											wieder
																											bis
																											zum
																											Ende
																											des
																											darauf
																											folgenden
																											Passiviergastaktes
																											bzw.
																											zum
																											Beginn
																											des
																											darauf
																											folgenden
																											Ätzgastaktes
																											auf
																											seinen
																											Sollgasfluss
																											gesetzt.
																		
			
				
																						Second
																											mass
																											flow
																											regulator
																											30
																											is
																											again
																											set
																											to
																											its
																											setpoint
																											gas
																											flow
																											until
																											the
																											end
																											of
																											the
																											following
																											passivation
																											gas
																											cycle
																											and/or
																											the
																											beginning
																											of
																											the
																											following
																											etching
																											gas
																											cycle
																											only
																											after
																											waiting
																											time
																											t
																											2
																											-t
																											L
																											has
																											elapsed
																											after
																											the
																											beginning
																											of
																											the
																											etching
																											step.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Auch
																											diese
																											Verfahrensführung
																											weist
																											jedoch
																											noch
																											den
																											Nachteil
																											auf,
																											dass
																											während
																											der
																											Passiviergastakte
																											nicht
																											nur
																											der
																											Inhalt
																											des
																											Puffertanks
																											24
																											in
																											die
																											Ätzkammer
																											12
																											strömt,
																											sondern
																											auch
																											noch
																											eine
																											geringe
																											Passiviergasmenge
																											während
																											des
																											Passiviergastaktes
																											von
																											dem
																											zweiten
																											Massenflussregler
																											30
																											nachgeliefert
																											wird.
																		
			
				
																						However,
																											this
																											method
																											also
																											has
																											the
																											disadvantage
																											that
																											during
																											the
																											passivation
																											gas
																											cycles,
																											not
																											only
																											the
																											contents
																											of
																											buffer
																											tank
																											24
																											flow
																											into
																											etching
																											chamber
																											12,
																											but
																											a
																											small
																											amount
																											of
																											passivation
																											gas
																											is
																											also
																											subsequently
																											supplied
																											by
																											second
																											mass
																											flow
																											regulator
																											30
																											during
																											the
																											passivation
																											gas
																											cycle.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Alternativ
																											ist
																											es
																											auch
																											möglich,
																											die
																											Massenflussregler
																											29,
																											30
																											entfernt
																											von
																											der
																											Ätzkammer
																											12
																											beispielsweise
																											in
																											einer
																											sogenannten
																											"Gasbox"
																											zu
																											platzieren.
																		
			
				
																						Alternatively,
																											it
																											is
																											also
																											possible
																											to
																											place
																											mass
																											flow
																											regulators
																											29,
																											30
																											distal
																											from
																											etching
																											chamber
																											12,
																											in
																											a
																											“gas
																											box,”
																											for
																											example.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Um
																											diese
																											halbe
																											Aufladezeit
																											zu
																											korrigeren,
																											muss
																											dann
																											im
																											Prozessprogramm
																											über
																											die
																											Steuereinheit
																											17
																											der
																											von
																											dem
																											zweiten
																											Massenflussregler
																											30
																											zu
																											liefernde
																											Passiviergasfluss
																											verdoppelt
																											werden.
																		
			
				
																						In
																											order
																											to
																											correct
																											this
																											halved
																											charging
																											time,
																											the
																											passivation
																											gas
																											flow
																											to
																											be
																											provided
																											by
																											second
																											mass
																											flow
																											regulator
																											30
																											must
																											then
																											be
																											doubled
																											in
																											the
																											process
																											program
																											via
																											control
																											unit
																											17
																											.
															 
				
		 EuroPat v2