Translation of "Maskless" in German
																						Maskless
																											techniques
																											for
																											electrochemical
																											machining
																											are
																											available.
																		
			
				
																						Es
																											gibt
																											auch
																											maskenlose
																											Verfahren
																											für
																											die
																											elektrochemische
																											abtragende
																											Bearbeitung.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Due
																											to
																											the
																											switchable
																											lens
																											system
																											183,
																											the
																											lithography
																											system
																											is
																											a
																											so-called
																											“maskless”
																											lithography
																											system.
																		
			
				
																						Aufgrund
																											der
																											schaltbaren
																											Linsenanordnung
																											183
																											ist
																											das
																											Lithographiesystem
																											ein
																											sogenanntes
																											"maskenloses"
																											Lithographiesystem.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						DISCLOSURE
																											OF
																											INVENTION
																											An
																											object
																											of
																											the
																											present
																											invention
																											is
																											to
																											establish
																											a
																											method
																											for
																											maskless
																											chemical
																											and
																											electrochemical
																											machining.
																		
			
				
																						Es
																											ist
																											ein
																											Ziel
																											der
																											Erfindung,
																											maskenlose
																											Verfahren
																											zur
																											selektiven
																											chemischen
																											oder
																											elektrochemischen
																											abtragenden
																											Bearbeitung
																											von
																											Oberflächen
																											entscheidend
																											zu
																											verbessern.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Only
																											a
																											maskless
																											exposure
																											process
																											allowing
																											an
																											individual
																											adjustment
																											of
																											the
																											layouts
																											to
																											the
																											chip
																											position
																											(adaptive
																											layout)
																											enables
																											the
																											connection
																											to
																											reliable
																											small
																											structures.
																		
			
				
																						Nur
																											mit
																											einem
																											maskenlosen
																											Belichtungsverfahren,
																											das
																											die
																											individuelle
																											Anpassung
																											des
																											Layouts
																											an
																											die
																											Chipposition
																											erlaubt
																											(Adaptives
																											Layout),
																											können
																											zuverlässig
																											kleine
																											Strukturen
																											angeschlossen
																											werden.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						The
																											method
																											as
																											claimed
																											in
																											claim
																											10,
																											wherein
																											the
																											plurality
																											of
																											first
																											windows
																											is
																											increased
																											in
																											size
																											to
																											form
																											a
																											corresponding
																											plurality
																											of
																											second
																											windows
																											in
																											the
																											maskless
																											process
																											step.
																		
			
				
																						Verfahren
																											nach
																											Anspruch
																											10,
																											dadurch
																											gekennzeichnet,
																											dass
																											die
																											Mehrzahl
																											von
																											ersten
																											Fenstern
																											(11a-h)
																											zu
																											einer
																											entsprechenden
																											Mehrzahl
																											von
																											zweiten
																											Fenstern
																											in
																											dem
																											maskenlosen
																											Prozessschritt
																											vergrößert
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											this
																											context,
																											it
																											should
																											be
																											noted,
																											however,
																											that
																											as
																											an
																											alternative
																											it
																											is
																											also
																											possible
																											for
																											the
																											upper,
																											third
																											mask
																											layer
																											9
																											to
																											be
																											etched
																											in
																											a
																											separate,
																											maskless
																											etching
																											step
																											if
																											this
																											third
																											layer
																											consists
																											of
																											a
																											material
																											which
																											can
																											be
																											etched
																											selectively
																											with
																											respect
																											to
																											the
																											materials
																											beneath
																											it.
																		
			
				
																						In
																											diesem
																											Zusammenhang
																											sei
																											erwähnt,
																											dass
																											es
																											jedoch
																											alternativ
																											auch
																											möglich
																											ist,
																											die
																											obere
																											dritte
																											Maskenschicht
																											9
																											in
																											einem
																											separaten
																											maskenlosen
																											Ätzschritt
																											zu
																											ätzen,
																											wenn
																											diese
																											aus
																											einem
																											Material
																											besteht,
																											das
																											sich
																											selektiv
																											gegen
																											alle
																											darunterliegenden
																											Materialien
																											ätzen
																											lässt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						According
																											to
																											a
																											further
																											preferred
																											embodiment,
																											the
																											plurality
																											of
																											first
																											windows
																											is
																											increased
																											in
																											size
																											to
																											form
																											a
																											corresponding
																											plurality
																											of
																											second
																											windows
																											in
																											the
																											maskless
																											process
																											step.
																		
			
				
																						Gemäß
																											einer
																											weiteren
																											bevorzugten
																											Weiterbildung
																											wird
																											die
																											Mehrzahl
																											von
																											ersten
																											Fenstern
																											zu
																											einer
																											entsprechenden
																											Mehrzahl
																											von
																											zweiten
																											Fenstern
																											in
																											dem
																											maskenlosen
																											Prozessschritt
																											vergrößert.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						According
																											to
																											a
																											further
																											preferred
																											embodiment,
																											the
																											plurality
																											of
																											first
																											windows
																											is
																											increased
																											in
																											size
																											to
																											form
																											a
																											reduced
																											number
																											of
																											second
																											windows
																											in
																											the
																											maskless
																											process
																											step
																											as
																											a
																											result
																											of
																											at
																											least
																											some
																											of
																											the
																											first
																											windows
																											being
																											joined
																											together
																											when
																											their
																											size
																											is
																											increased.
																		
			
				
																						Gemäß
																											einer
																											weiteren
																											bevorzugten
																											Weiterbildung
																											wird
																											die
																											Mehrzahl
																											von
																											ersten
																											Fenstern
																											zu
																											einer
																											verringerten
																											Anzahl
																											von
																											zweiten
																											Fenstern
																											in
																											dem
																											maskenlosen
																											Prozessschritt
																											vergrößert,
																											indem
																											mindestens
																											einige
																											der
																											ersten
																											Fenster
																											beim
																											Vergrößern
																											miteinander
																											verbunden
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											present
																											invention
																											relates
																											to
																											a
																											maskless
																											lithography
																											system
																											for
																											direct,
																											nano-scale
																											capable
																											structuring
																											of
																											a
																											substrate
																											disposed
																											on
																											a
																											movable
																											mounting
																											table
																											in
																											a
																											vacuum
																											chamber
																											supplied
																											with
																											a
																											high
																											voltage,
																											using
																											a
																											charged
																											particle
																											beam
																											generated
																											by
																											a
																											beam
																											source,
																											and
																											an
																											addressable
																											digital
																											pattern
																											generating
																											system
																											onto
																											which
																											the
																											structure
																											pattern
																											to
																											be
																											generated
																											is
																											transmitted
																											as
																											a
																											set
																											of
																											pattern
																											data
																											generated
																											with
																											computer
																											assistance
																											using
																											a
																											data
																											transmission
																											system.
																		
			
				
																						Die
																											Erfindung
																											bezieht
																											sich
																											auf
																											ein
																											maskenloses
																											Lithographiesystem
																											zur
																											direkten,
																											nanoskalierbaren
																											Strukturierung
																											eines
																											auf
																											einem
																											verfahrbaren
																											Halterungstisch
																											angeordneten
																											Substrats
																											in
																											einer
																											hochspannungsbeaufschlagten
																											Vakuumkammer
																											mittels
																											eines
																											von
																											einer
																											Strahlenquelle
																											erzeugten,
																											geladenen
																											Teilchenstrahls
																											mit
																											einem
																											ansteuerbaren
																											digitalen
																											Mustererzeugungssystem,
																											auf
																											das
																											das
																											zu
																											erzeugende
																											Strukturmuster
																											als
																											computerunterstützt
																											erzeugter
																											Musterdatensatz
																											mittels
																											eines
																											Datenübertragungssystems
																											übertragen
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						EV
																											Group
																											has
																											developed
																											a
																											completely
																											new
																											maskless
																											lithography
																											technology
																											for
																											the
																											requirements
																											of
																											back-end
																											lithography
																											in
																											the
																											sectors
																											of
																											advanced
																											packaging,
																											MEMS,
																											bio-
																											and
																											medical
																											technology
																											as
																											well
																											as
																											high-density
																											PCBs.
																		
			
				
																						Für
																											die
																											Anforderungen
																											der
																											Back-End-Lithographie
																											in
																											den
																											Sektoren
																											Advanced
																											Packaging,
																											MEMS,
																											Bio-
																											und
																											Medizintechnik
																											sowie
																											High-Density-PCBs
																											hat
																											EV
																											Group
																											eine
																											vollkommen
																											neue
																											maskenlose
																											Lithografietechnik
																											entwickelt.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						And
																											how
																											can
																											Clark
																											ever
																											become
																											Superman
																											in
																											the
																											original
																											maskless
																											costume
																											when
																											he
																											already
																											works
																											glassless
																											in
																											the
																											Daily
																											Planet
																											alongside
																											Lois
																											and
																											Jimmy?
																		
			
				
																						Und
																											wie
																											soll
																											Clark
																											je
																											Superman
																											in
																											dem
																											originalen
																											maskenlosen
																											Kostüm
																											werden,
																											wenn
																											er
																											bereits
																											brillenlos
																											mit
																											Lois
																											und
																											Jimmy
																											im
																											Daily
																											Planet
																											arbeitet?
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Technical
																											Field
																											This
																											invention
																											relates
																											generally
																											to
																											a
																											method
																											for
																											locally
																											enhancing
																											electroplating
																											rates
																											and
																											more
																											particularly
																											to
																											a
																											maskless
																											technique
																											for
																											establishing
																											high
																											resolution
																											patterns
																											plated
																											onto
																											a
																											substrate.
																		
			
				
																						Die
																											Erfindung
																											betrifft
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											selektiven
																											Steigerung
																											der
																											Niederschlagsrate
																											beim
																											Galvanisieren.
																											Insbesondere
																											betrifft
																											sie
																											ein
																											maskenloses
																											Verfahren,
																											um
																											Leitungszüge
																											hoher
																											Auflösung
																											auf
																											einem
																											Substrat
																											herzustellen.
															 
				
		 EuroPat v2