Translation of "Projection apparatus" in German
The
optical
system
can,
for
example,
be
part
of
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus.
Das
optische
System
kann
z.B.
Teil
einer
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
sein.
EuroPat v2
The
calculation
for
the
second
projection
apparatus
12
is
performed
analogously.
Die
Berechnung
für
die
zweite
Projektionsvorrichtung
12
erfolgt
analog.
EuroPat v2
The
disclosure
relates
to
an
optical
system
for
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus.
Die
Erfindung
betrifft
ein
optisches
System
für
eine
mikrolithographische
Projektionsbelichtungsanlage.
EuroPat v2
Such
a
projection
exposure
apparatus
has
an
illumination
device
and
a
projection
lens.
Eine
solche
Projektionsbelichtungsanlage
weist
eine
Beleuchtungseinrichtung
und
ein
Projektionsobjektiv
auf.
EuroPat v2
The
disclosure
relates
to
an
EUV
light
source
for
an
illumination
device
of
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus.
Die
Erfindung
betrifft
eine
EUV-Lichtquelle
für
eine
Beleuchtungseinrichtung
einer
mikrolithographischen
Projektionsbelichtungsanlage.
EuroPat v2
Furthermore,
adaptive
mirrors
as
manipulators
for
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus
are
known.
Weiterhin
sind
adaptive
Spiegel
als
Manipulatoren
für
eine
mikrolithographische
Projektionsbelichtungsanlage
bekannt.
EuroPat v2
Additionally,
the
setting
options
of
other
manipulators
of
the
projection
exposure
apparatus
10
can
be
taken
into
account.
Zusätzlich
können
die
Stellmöglichkeiten
anderer
Manipulatoren
der
Projektionsbelichtungsanlage
10
berücksichtigt
werden.
EuroPat v2
In
other
words,
the
projection
apparatus
is
configured
in
the
form
of
a
slide
projector.
Mit
anderen
Worten
ist
die
Projektionsvorrichtung
als
Diaprojektor
ausgebildet.
EuroPat v2
The
projection
exposure
apparatus
1
serves
for
producing
a
micro-
or
nanostructured
electronic
semiconductor
component.
Die
Projektionsbelichtungsanlage
1
dient
zur
Herstellung
eines
mikro-
bzw.
nanostrukturierten
elektronischen
Halbleiter-Bauelements.
EuroPat v2
The
microlithography
projection
exposure
apparatus
according
to
claim
21,
wherein
the
diffuser
comprises
more
than
500
mirror
facets.
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
nach
Anspruch
69,
wobei
der
Diffusor
mehr
als
500
Spiegelfacetten
umfasst.
EuroPat v2
The
projection
exposure
apparatus
10
functions
in
the
following
way:
Die
Projektionsbelichtungsanlage
10
funktioniert
auf
folgende
Weise:
EuroPat v2
Furthermore
the
invention
relates
to
a
projection
exposure
apparatus
for
microlithography
comprising
such
a
measurement
system.
Weiterhin
betrifft
die
Erfindung
eine
Projektionsbelichtungsanlage
für
die
Mikrolithographie
mit
einer
derartigen
Messvorrichtung.
EuroPat v2
An
EUV
radiation
source
can
be
used
as
a
radiation
source
for
the
projection
exposure
apparatus.
Als
Strahlungsquelle
für
die
Projektionsbelichtungsanlage
kann
eine
EUV-Strahlungsquelle
zum
Einsatz
kommen.
EuroPat v2
The
projection
apparatus
as
claimed
in
claim
7,
wherein
the
polarizer
is
a
polarizing
beam
divider.
Projektionsvorrichtung
nach
Anspruch
7,
dadurch
gekennzeichnet,
dass
der
Polarisator
ein
polarisierender
Strahlteiler
ist.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
an
illuminating
arrangement
for
an
optical
system
such
as
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus
having
a
reticle
masking
unit.
Die
Erfindung
betrifft
eine
Beleuchtungseinrichtung
für
eine
Projektions-Mikrolithographie-Belichtungsanlage
für
die
wahlweise
Bereitstellung
verschiedener
Beleuchtungsarten.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
an
illuminating
arrangement
for
a
Projection
microlithographic
exposure
apparatus
for
selectively
providing
different
types
of
illumination.
Die
Erfindung
betrifft
eine
Beleuchtungseinrichtung
für
eine
Projektions-Mikrolithographie-Belichtungsanlage
für
die
wahlweise
Bereitstellung
verschiedener
Beleuchtungsarten.
EuroPat v2
What
is
required
is
to
determine
this
for
each
projection
apparatus
11,
12
and
for
each
interpolation
point.
Diesen
gilt
es
für
jede
Projektionsvorrichtung
11,
12
und
für
jede
Stützstelle
zu
ermitteln.
EuroPat v2
At
least
one
projection
apparatus
serves
for
projecting
previously
known
calibration
patterns
onto
at
least
a
portion
of
the
projection
area.
Mindestens
eine
Projektionsvorrichtung
dient
zur
Projektion
vorbekannter
Kalibriermuster
auf
mindestens
einen
Teil
der
Projektionsfläche.
EuroPat v2
The
disclosure
furthermore
relates
to
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus
and
to
a
method
for
microlithographically
producing
microstructured
components.
Die
Erfindung
betrifft
ferner
eine
mikrolithographische
Projektionsbelichtungsanlage
sowie
ein
Verfahren
zur
mikrolithographischen
Herstellung
mikrostrukturierter
Bauelemente.
EuroPat v2
Further
aspects
of
the
projection
exposure
apparatus
1,
in
particular
of
the
beam
shaping
optical
unit
6,
are
described
below.
Im
Folgenden
werden
weitere
Aspekte
der
Projektionsbelichtungsanlage
1,
insbesondere
der
Strahlformungsoptik
6
beschrieben.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
a
method
for
producing
a
mirror
element,
in
particular
for
a
microlithographic
projection
exposure
apparatus.
Die
Erfindung
betrifft
ein
Verfahren
zum
Herstellen
eines
Spiegelelements,
insbesondere
für
eine
mikrolithographische
Projektionsbelichtungsanlage.
EuroPat v2