Translation of "Projection apparatus" in German

The optical system can, for example, be part of a microlithographic projection exposure apparatus.
Das optische System kann z.B. Teil einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage sein.
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The calculation for the second projection apparatus 12 is performed analogously.
Die Berechnung für die zweite Projektionsvorrichtung 12 erfolgt analog.
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The disclosure relates to an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus.
Die Erfindung betrifft ein optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage.
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Such a projection exposure apparatus has an illumination device and a projection lens.
Eine solche Projektionsbelichtungsanlage weist eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv auf.
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The disclosure relates to an EUV light source for an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus.
Die Erfindung betrifft eine EUV-Lichtquelle für eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage.
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Furthermore, adaptive mirrors as manipulators for a microlithographic projection exposure apparatus are known.
Weiterhin sind adaptive Spiegel als Manipulatoren für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage bekannt.
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Additionally, the setting options of other manipulators of the projection exposure apparatus 10 can be taken into account.
Zusätzlich können die Stellmöglichkeiten anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage 10 berücksichtigt werden.
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In other words, the projection apparatus is configured in the form of a slide projector.
Mit anderen Worten ist die Projektionsvorrichtung als Diaprojektor ausgebildet.
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The projection exposure apparatus 1 serves for producing a micro- or nanostructured electronic semiconductor component.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 dient zur Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten elektronischen Halbleiter-Bauelements.
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The microlithography projection exposure apparatus according to claim 21, wherein the diffuser comprises more than 500 mirror facets.
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 69, wobei der Diffusor mehr als 500 Spiegelfacetten umfasst.
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The projection exposure apparatus 10 functions in the following way:
Die Projektionsbelichtungsanlage 10 funktioniert auf folgende Weise:
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Furthermore the invention relates to a projection exposure apparatus for microlithography comprising such a measurement system.
Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen Messvorrichtung.
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An EUV radiation source can be used as a radiation source for the projection exposure apparatus.
Als Strahlungsquelle für die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Strahlungsquelle zum Einsatz kommen.
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The projection apparatus as claimed in claim 7, wherein the polarizer is a polarizing beam divider.
Projektionsvorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Polarisator ein polarisierender Strahlteiler ist.
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The invention relates to an illuminating arrangement for an optical system such as a microlithographic projection exposure apparatus having a reticle masking unit.
Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung für eine Projektions-Mikrolithographie-Belichtungsanlage für die wahlweise Bereitstellung verschiedener Beleuchtungsarten.
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The invention relates to an illuminating arrangement for a Projection microlithographic exposure apparatus for selectively providing different types of illumination.
Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung für eine Projektions-Mikrolithographie-Belichtungsanlage für die wahlweise Bereitstellung verschiedener Beleuchtungsarten.
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What is required is to determine this for each projection apparatus 11, 12 and for each interpolation point.
Diesen gilt es für jede Projektionsvorrichtung 11, 12 und für jede Stützstelle zu ermitteln.
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At least one projection apparatus serves for projecting previously known calibration patterns onto at least a portion of the projection area.
Mindestens eine Projektionsvorrichtung dient zur Projektion vorbekannter Kalibriermuster auf mindestens einen Teil der Projektionsfläche.
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The disclosure furthermore relates to a microlithographic projection exposure apparatus and to a method for microlithographically producing microstructured components.
Die Erfindung betrifft ferner eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente.
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Further aspects of the projection exposure apparatus 1, in particular of the beam shaping optical unit 6, are described below.
Im Folgenden werden weitere Aspekte der Projektionsbelichtungsanlage 1, insbesondere der Strahlformungsoptik 6 beschrieben.
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The invention relates to a method for producing a mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage.
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