Translation of "Projection machine" in German
The
invention
relates
to
an
objective,
in
particular
an
objective
for
a
semiconductor
lithography
projection
exposure
machine,
having
a
plurality
of
optical
elements
supported
in
mounts.
Die
Erfindung
betrifft
ein
Verfahren
zur
Herstellung
eines
Projektionsbelichtungsobjektives
und
ein
Projektionsbelichtungsobjektiv
für
eine
Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage,
mit
mehreren
in
Fassungen
gelagerten
optischen
Elementen.
EuroPat v2
Resists
generally
consist
of
plastic
and
are
changed
upon
the
application
of
laser
light,
in
which
case
they
output
emissions
which
are
damaging
to
the
optical
elements
of
the
objective
used
in
the
semiconductor
lithography
projection
exposure
machine.
Resiste
bestehen
im
allgemeinen
aus
Kunststoff
und
werden
bei
der
Beaufschlagung
mit
Laserlicht
verändert,
wobei
sie
Emissionen
abgeben,
welche
für
die
optischen
Elemente
des
in
der
Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage
verwendeten
Objektives
schädlich
sind.
EuroPat v2
The
manipulator
9,
which
is
designed
in
the
way
just
described,
can
fulfill
the
very
high
requirements
that
occur
in
the
region
of
the
projection
exposure
machine
1
for
microlithography,
and
here,
in
particular,
in
the
imaging
device
7
.
Der
Manipulator
9,
welcher
in
der
oben
beschriebenen
Art
und
Weise
aufgebaut
ist,
kann
die
sehr
hohen
Anforderungen,
welche
im
Bereich
der
Projektionsbelichtungsanlage
1
für
die
Mikrolithographie
und
hier
insbesondere
in
der
Abbildungseinrichtung
7
auftreten,
erfüllen.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
an
imaging
device
in
a
projection
exposure
machine
for
microlithography,
having
at
least
one
optical
element
and
at
least
one
manipulator,
having
a
linear
drive,
for
manipulating
the
position
of
the
optical
element.
Die
Erfindung
betrifft
eine
Abbildungseinrichtung
in
einer
Projektionsbelichtungsanlage
für
die
Mikrolithographie
mit
wenigstens
einem
optischen
Element
und
wenigstens
einem
einen
Linearantrieb
aufweisenden
Manipulator
zur
Manipulation
der
Position
des
optischen
Elements.
EuroPat v2
SUMMARY
OF
THE
INVENTION
It
is
the
object
of
the
invention
to
create
an
imaging
device
for
a
projection
exposure
machine
in
microlithography
comprising
a
manipulator
that
permits
a
very
rigid
configuration
and
a
very
good
ratio
of
resolution
to
lift
for
movements
that
are
to
be
executed
by
the
manipulator.
Es
ist
nun
die
Aufgabe
der
Erfindung
eine
Abbildungseinrichtung
für
eine
Projektionsbelichtungsanlage
in
der
Mikrolithographie
mit
einem
Manipulator
zu
schaffen,
welcher
eine
sehr
steife
Ausgestaltung
und
bei
den
durch
den
Manipulator
auszuführenden
Bewegungen,
ein
sehr
gutes
Verhältnis
von
Auflösung
zu
Hub
ermöglicht.
EuroPat v2
The
requirements
that
are
to
be
placed
on
the
projection
exposure
machine
1,
in
particular
on
the
imaging
device
7,
with
regard
to
the
resolutions
are
in
the
sub-?m
range
in
this
case.
Die
an
die
Projektionsbelichtungsanlage
1,
insbesondere
an
die
Abbildungseinrichtung
7,
zu
stellenden
Anforderungen
hinsichtlich
der
Auflösungen
liegen
dabei
im
Sub-µm-Bereich.
EuroPat v2
Once
the
entire
surface
of
the
wafer
2
has
been
exposed,
the
latter
is
removed
from
the
projection
exposure
machine
1
and
subjected
to
a
plurality
of
chemical
treatment
steps,
generally
the
removal
of
material
by
etching.
Wenn
die
gesamte
Fläche
des
Wafers
2
belichtet
ist,
wird
dieser
aus
der
Projektionsbelichtungsanlage
1
entnommen
und
einer
Mehrzahl
chemischer
Behandlungsschritte,
im
allgemeinen
einem
ätzenden
Abtragen
von
Material,
unterzogen.
EuroPat v2
Moreover,
in
addition
to
the
plane
mirror
illustrated
here
the
optical
element
10
can
also
be
a
concave
mirror,
a
prism,
a
beam
splitter
cube
or
the
like,
whose
manipulation,
in
particular
tilting
manipulation,
is
desired
for
optimizing
the
mode
of
operation
of
the
imaging
device
7
of
the
projection
exposure
machine
1
.
Außerdem
kann
das
optische
Element
10
neben
dem
hier
dargestellten
Planspiegel
auch
ein
Konkavspiegel,
ein
Prisma,
ein
Strahlteilerwürfel
oder
dergleichen
sein,
dessen
Manipulation,
insbesondere
Kippmanipulation,
für
die
Optimierung
der
Funktionsweise
der
Abbildungseinrichtung
7
der
Projektionsbelichtungsanlage
1
erwünscht
ist.
EuroPat v2
It
is
the
object
of
the
invention
to
create
an
imaging
device
for
a
projection
exposure
machine
in
microlithography
comprising
a
manipulator
that
permits
a
very
rigid
configuration
and
a
very
good
ratio
of
resolution
to
lift
for
movements
that
are
to
be
executed
by
the
manipulator.
Es
ist
nun
die
Aufgabe
der
Erfindung
eine
Abbildungseinrichtung
für
eine
Projektionsbelichtungsanlage
in
der
Mikrolithographie
mit
einem
Manipulator
zu
schaffen,
welcher
eine
sehr
steife
Ausgestaltung
und
bei
den
durch
den
Manipulator
auszuführenden
Bewegungen,
ein
sehr
gutes
Verhältnis
von
Auflösung
zu
Hub
ermöglicht.
EuroPat v2
SUMMARY
It
is
the
object
of
the
invention
to
create
an
imaging
device
for
a
projection
exposure
machine
in
microlithography
comprising
a
manipulator
that
permits
a
very
rigid
configuration
and
a
very
good
ratio
of
resolution
to
lift
for
movements
that
are
to
be
executed
by
the
manipulator.
Es
ist
nun
die
Aufgabe
der
Erfindung
eine
Abbildungseinrichtung
für
eine
Projektionsbelichtungsanlage
in
der
Mikrolithographie
mit
einem
Manipulator
zu
schaffen,
welcher
eine
sehr
steife
Ausgestaltung
und
bei
den
durch
den
Manipulator
auszuführenden
Bewegungen,
ein
sehr
gutes
Verhältnis
von
Auflösung
zu
Hub
ermöglicht.
EuroPat v2
The
properties
of
the
piezoelectric
linear
drive
that
have
been
stated
above
ideally
fulfill
the
requirements
that
must
be
fulfilled
for
the
tasks
of
manipulation
in
a
projection
exposure
machine
for
microlithography.
Die
oben
angeführten
Eigenschaften
des
Piezo-Linearantriebes
erfüllen
in
idealer
Weise
die
Anforderungen,
welche
für
die
Manipulationsaufgaben
in
einer
Projektionsbelichtungsanlage
für
die
Mikrolithographie
erfüllt
sein
müssen.
EuroPat v2
Because
of
the
stepwise
feed
movement
of
the
wafer
2
in
the
projection
exposure
machine
1,
the
latter
is
frequently
also
denoted
a
stepper.
Aufgrund
der
schrittweisen
Vorschubbewegung
des
Wafers
2
in
der
Projektionsbelichtungsanlage
1
wird
diese
häufig
auch
als
Stepper
bezeichnet.
EuroPat v2
The
disclosure
provides
a
projection
objective
of
a
lithographic
projection
exposure
machine,
including
an
optical
arrangement
of
optical
elements
between
an
object
plane
and
an
image
plane,
the
arrangement
having
at
least
one
intermediate
image
plane,
the
arrangement
further
having
at
least
two
correction
elements
for
correcting
aberrations,
of
which
a
first
correction
element
is
arranged
optically
at
least
in
the
vicinity
of
a
pupil
plane
and
a
second
correction
element
is
arranged
in
a
region
which
is
not
optically
near
either
a
pupil
plane
or
a
field
plane.
Erfindungsgemäß
wird
diese
Aufgabe
durch
ein
Projektionsobjektiv
einer
lithographischen
Projektionsbelichtungsanlage
gelöst,
mit
einer
optischen
Anordnung
optischer
Elemente
zwischen
einer
Objektebene
und
einer
Bildebene,
wobei
die
Anordnung
zumindest
eine
Zwischenbildebene
aufweist,
wobei
die
Anordnung
weiterhin
zumindest
zwei
Korrekturelemente
zur
Korrektur
von
Abbildungsfehlern
aufweist,
von
denen
ein
erstes
Korrekturelement
optisch
zumindest
in
Nähe
einer
Pupillenebene
und
ein
zweites
Korrekturelement
in
einem
Bereich
angeordnet
ist,
der
weder
einer
Pupillenebene
noch
einer
Feldebene
optisch
nahe
ist.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
a
method
for
correcting
at
least
one
image
defect
of
a
projection
objective
of
a
lithography
projection
exposure
machine,
the
projection
objective
comprising
an
optical
arrangement
composed
of
a
plurality
of
lenses
and
at
least
one
mirror.
Die
Erfindung
betrifft
ein
Verfahren
zum
Korrigieren
zumindest
eines
Abbildungsfehlers
eines
Projektionsobjektivs
einer
lithographischen
Projektionsbelichtungsanlage,
wobei
das
Projektionsobjektiv
eine
optische
Anordnung
aus
einer
Mehrzahl
an
Linsen
und
zumindest
einem
Spiegel
aufweist.
EuroPat v2
In
accordance
with
a
first
aspect
of
the
invention,
a
method
for
correcting
at
least
one
image
defect
of
a
projection
objective
of
a
lithography
projection
exposure
machine
is
provided,
the
projection
objective
comprising
an
optical
arrangement
composed
of
a
plurality
of
lenses
and
at
least
one
mirror,
the
at
least
one
mirror
having
an
optically
operative
surface
that
can
be
defective
and
is
thus
responsible
for
the
at
least
one
aberration,
comprising
the
steps
of:
Gemäß
einem
ersten
Aspekt
der
Erfindung
wird
ein
Verfahren
zum
Korrigieren
zumindest
eines
Abbildungsfehlers
eines
Projektionsobjektivs
einer
lithographischen
Projektionsbelichtungsanlage
bereitgestellt,
das
eine
optische
Anordnung
aus
einer
Mehrzahl
an
Linsen
und
zumindest
einem
Spiegel
aufweist,
wobei
der
zumindest
eine
Spiegel
eine
optisch
wirksame
Oberfläche
aufweist,
die
fehlerbehaftet
sein
kann
und
somit
für
den
zumindest
einen
Abbildungsfehler
verantwortlich
ist,
mit
den
Schritten:
EuroPat v2
In
accordance
with
a
further
aspect
of
the
invention,
provision
is
made
for
a
projection
objective
of
a
lithography
projection
exposure
machine,
comprising
an
optical
arrangement
composed
of
a
plurality
of
lenses
and
at
least
one
mirror,
wherein
the
at
least
one
mirror
has
an
optically
operative
surface
that
can
cause
at
least
one
image
defect
of
the
optical
arrangement,
and
wherein
for
the
correction
of
the
image
defect
at
least
one
optically
operative
lens
surface
among
the
lens
surfaces
of
the
lenses
is
selected,
at
which
the
magnitude
of
a
ratio
VL
of
principal
ray
height
h
L
H
to
marginal
ray
height
h
R
L
comes
at
least
closest
to
a
ratio
VM
of
principal
ray
height
h
M
H
to
marginal
ray
height
h
M
R
at
the
optical
active
surface
of
the
at
least
one
mirror,
preferably
selected
such
that
VL
additionally
has
the
same
sign
as
VM.
Gemäß
einem
weiteren
Aspekt
der
Erfindung
wird
ein
Projektionsobjektiv
einer
lithographischen
Projektionsbelichtungsanlage
bereitgestellt,
mit
einer
optischen
Anordnung
aus
einer
Mehrzahl
an
Linsen
und
zumindest
einem
Spiegel,
wobei
der
zumindest
eine
Spiegel
eine
optisch
wirksame
Oberfläche
aufweist,
die
zumindest
einen
Abbildungsfehler
der
optischen
Anordnung
hervorrufen
kann,
wobei
für
die
Korrektur
des
Abbildungsfehlers
zumindest
eine
optisch
wirksame
Linsenoberfläche
unter
den
Linsenoberflächen
der
Linsen
ausgewählt
ist,
an
der
ein
Verhältnis
VL
aus
Hauptstrahlhöhe
h
L
H
zu
Randstrahlhöhe
h
R
L
einem
Verhältnis
VM
aus
Hauptstrahlhöhe
h
M
H
zu
Randstrahlhöhe
h
M
R
an
der
optisch
wirksamen
Oberfläche
des
zumindest
einen
Spiegels
dem
Betrage
nach
zumindest
am
nächsten
kommt,
vorzugsweise
so
ausgewählt,
dass
zusätzlich
VL
das
gleiche
Vorzeichen
wie
VM
hat.
EuroPat v2
Before
going
into
the
figures
in
more
detail,
the
method
for
correcting
at
least
one
image
defect
of
a
catadioptric
projection
objective
of
a
lithography
projection
exposure
machine
is
firstly
described
in
general.
Bevor
auf
die
Figuren
näher
eingegangen
wird,
wird
zunächst
das
Verfahren
zum
Korrigieren
zumindest
eines
Abbildungsfehlers
eines
katadioptrischen
Projektionsobjektivs
einer
lithographischen
Projektionsbelichtungsanlage
allgemein
beschrieben.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
an
apparatus
for
mounting
an
optical
element
in
an
optical
system.
More
specifically
the
invention
relates
to
an
apparatus
for
mounting
a
mirror
or
a
lens
in
a
projection
objective
of
a
projection
exposure
machine
in
semiconductor
lithography.
Die
Erfindung
betrifft
eine
Vorrichtung
zur
Lagerung
eines
optischen
Elementes
in
einer
Optik,
insbesondere
eines
Spiegels
oder
einer
Linse,
in
einer
Projektionsbelichtungsanlage,
insbesondere
einem
Projektionsobjektiv
in
der
Halbleiter-Lithographie.
EuroPat v2
In
the
case
of
such
a
design,
it
is
therefore
certainly
impossible
to
implement
the
accuracies
which
are
required
in
the
adjustment
and
which
are
necessary
for
the
case
of
application
for
the
abovenamed
invention
in
a
projection
exposure
machine
for
microlithography,
in
particular
for
use
with
radiation
in
the
region
of
the
extreme
ultraviolet
(EUV).
Bei
einem
derartigen
Aufbau
lassen
sich
daher
die
bei
der
Justage
erforderlichen
Genauigkeiten,
welche
für
den
Anwendungsfall
der
oben
genannten
Erfindung
in
einer
Projektionsbelichtungsanlage
für
die
Mikrolithographie,
insbesondere
für
den
Einsatz
unter
Strahlung
im
Bereich
des
extremen
Ultravioletts
(EUV),
erforderlich
sind,
sicherlich
nicht
realisieren.
EuroPat v2
The
requirements
to
be
placed
on
the
projection
exposure
machine
1,
in
particular
on
the
imaging
device
7,
as
regards
the
resolutions
are
this
in
case
in
the
range
of
a
few
nanometers.
Die
an
die
Projektionsbelichtungsanlage
1,
insbesondere
an
die
Abbildungseinrichtung
7,
zu
stellenden
Anforderungen
hinsichtlich
der
Auflösungen
liegen
dabei
im
Bereich
von
wenigen
Nanometern.
EuroPat v2
Once
the
entire
area
of
the
wafer
2
has
been
exposed,
the
latter
is
removed
from
the
projection
exposure
machine
1,
and
subjected
to
a
plurality
of
chemical
treatment
steps,
generally
a
removal
of
material
by
etching.
Wenn
die
gesamte
Fläche
des
Wafers
2
belichtet
ist,
wird
dieser
aus
der
Projektionsbelichtungsanlage
1
entnommen
und
einer
Mehrzahl
chemischer
Behandlungsschritte,
im
allgemeinen
einem
ätzenden
Abtragen
von
Material,
unterzogen.
EuroPat v2