Translation of "Selective exposure" in German
																						After
																											the
																											selective
																											exposure
																											operation
																											the
																											electrostatic
																											charge
																											is
																											transferred
																											onto
																											the
																											substrate.
																		
			
				
																						Nach
																											dem
																											selektiven
																											Belichten
																											wird
																											die
																											elektrostatische
																											Aufladung
																											auf
																											das
																											Substrat
																											übertragen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						These
																											steps
																											include
																											the
																											deposition
																											of
																											a
																											photoresist
																											layer
																											and
																											the
																											selective
																											exposure
																											thereof
																											with
																											the
																											desired
																											pattern.
																		
			
				
																						Diese
																											Schritte
																											enthalten
																											die
																											Abscheidung
																											einer
																											Fotolackschicht
																											und
																											das
																											selektive
																											Belichten
																											derselben
																											mit
																											dem
																											erwünschten
																											Muster.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Layer-by-layer
																											curing
																											is
																											achieved
																											by
																											point
																											exposure
																											or
																											selective
																											exposure
																											by
																											means
																											of
																											a
																											mask
																											system
																											with
																											actinic
																											radiation.
																		
			
				
																						Die
																											schichtweise
																											Aushärtung
																											wird
																											durch
																											punktuelle
																											oder
																											mittels
																											Maskensystem
																											selektive
																											Belichtung
																											mit
																											aktinischer
																											Strahlung
																											erreicht.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						According
																											to
																											a
																											preferred
																											development
																											of
																											the
																											method
																											of
																											the
																											invention,
																											and
																											as
																											a
																											feature
																											of
																											the
																											invention,
																											the
																											selective
																											exposure
																											of
																											the
																											photoresist
																											in
																											the
																											region
																											of
																											the
																											plated-through
																											holes
																											and/or
																											solder
																											pads
																											is
																											undertaken
																											with
																											the
																											assistance
																											of
																											a
																											laser.
																		
			
				
																						Gemäß
																											einer
																											bevorzugten
																											Ausgestaltung
																											des
																											erfindungsgemäßen
																											Verfahrens
																											wird
																											die
																											selektive
																											Belichtung
																											des
																											Fotoresists
																											im
																											Bereich
																											der
																											Durchkontaktierungen
																											und/oder
																											Lötpads
																											mit
																											Hilfe
																											eines
																											Lasers
																											vorgenommen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						A
																											further
																											partial
																											object
																											consists
																											in
																											furthermore
																											obtaining
																											the
																											advantage
																											of
																											the
																											exposure
																											correction
																											during
																											the
																											exposure
																											for
																											a
																											series
																											of
																											practical
																											cases
																											of
																											application
																											with
																											fluorescence
																											exposures
																											by
																											the
																											selection
																											of
																											the
																											exposure
																											program,
																											i.e.
																											in
																											combining
																											both
																											photography
																											with
																											shortened
																											exposure
																											times
																											and
																											also
																											the
																											selective
																											exposure
																											correction
																											during
																											the
																											exposure.
																		
			
				
																						Eine
																											weitere
																											Teilaufgabe
																											besteht
																											darin,
																											den
																											Vorteil
																											der
																											Belichtungskorrektur
																											während
																											der
																											Belichtung
																											für
																											eine
																											Reihe
																											von
																											Anwendungsfällen
																											bei
																											Fluoreszenzaufnahmen
																											durch
																											die
																											Wahl
																											des
																											Belichtungsprogrammes
																											weiterhin
																											zu
																											erhalten,
																											also
																											sowohl
																											das
																											Fotografieren
																											mit
																											verkürzten
																											Belichtungszeiten
																											wie
																											auch
																											die
																											wahlweise
																											Belichtungskorrektur
																											während
																											der
																											Aufnahme
																											miteinander
																											zu
																											vereinen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											selective
																											exposure
																											by
																											laser
																											or
																											mask
																											in
																											differently
																											shaped
																											surface
																											structures
																											directly
																											on
																											one
																											side
																											of
																											a
																											transparent
																											reference
																											plane
																											opposite
																											the
																											source
																											of
																											radiation,
																											the
																											resin
																											polymerises
																											in
																											direct
																											contact
																											with
																											this
																											reference
																											plane.
																		
			
				
																						Bei
																											der
																											selektiven
																											Belichtung
																											durch
																											Laser
																											oder
																											Maske
																											in
																											unterschiedlich
																											geformten
																											Flächenstrukturen
																											direkt
																											an
																											einer,
																											der
																											Strahlungsquelle
																											gegenüberliegenden
																											Seite
																											einer
																											transparenten
																											Referenzebene,
																											polymerisiert
																											das
																											Harz
																											in
																											direktem
																											Kontakt
																											mit
																											dieser
																											Referenzebene
																											aus.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											method
																											includes
																											a
																											chemical
																											treatment
																											of
																											the
																											surface
																											with
																											an
																											oxidizing
																											agent
																											subsequent
																											in
																											time
																											to
																											a
																											locally
																											selective
																											exposure
																											with
																											UV
																											light.
																		
			
				
																						Das
																											Verfahren
																											umfasst
																											eine
																											sich
																											an
																											eine
																											örtlich
																											selektive
																											Belichtung
																											durch
																											UV-Licht
																											zeitlich
																											nachgehende
																											chemische
																											Behandlung
																											der
																											Oberfläche
																											mit
																											einem
																											Oxidationsmittel.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Optionally,
																											the
																											locally
																											selective
																											exposure
																											can
																											be
																											preceded
																											by
																											a
																											large-area
																											chemical
																											treatment
																											of
																											the
																											surface
																											with
																											a
																											strong
																											base.
																		
			
				
																						Optional
																											kann
																											der
																											örtlich
																											selektiven
																											Belichtung
																											eine
																											großflächige
																											chemische
																											Behandlung
																											der
																											Oberfläche
																											mit
																											einer
																											starken
																											Base
																											vorausgehen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											method
																											according
																											to
																											the
																											present
																											invention
																											for
																											producing
																											a
																											pattern
																											of
																											hydropbilic
																											and
																											hydrophobic
																											regions
																											on
																											a
																											surface
																											which,
																											in
																											a
																											first,
																											essentially
																											unpatterned
																											state,
																											features
																											a
																											polymer
																											material
																											containing
																											imide
																											groups
																											has
																											the
																											feature
																											that
																											a
																											chemical
																											treatment
																											of
																											the
																											surface
																											with
																											an
																											oxidizing
																											agent
																											is
																											carried
																											out
																											subsequent
																											in
																											time
																											to
																											a
																											locally
																											selective
																											exposure
																											by
																											local
																											irradiation
																											of
																											electromagnetic
																											energy.
																		
			
				
																						Das
																											erfindungsgemäße
																											Verfahren
																											zur
																											Erzeugung
																											einer
																											Struktur
																											aus
																											hydrophilen
																											und
																											hydrophoben
																											Bereichen
																											auf
																											einer
																											Oberfläche,
																											welche
																											in
																											einem
																											ersten,
																											im
																											Wesentlichen
																											unstrukturierten
																											Zustand
																											ein
																											Polymermaterial
																											mit
																											Imid-Gruppen
																											aufweist,
																											zeichnet
																											sich
																											dadurch
																											aus,
																											dass
																											eine
																											sich
																											an
																											eine
																											örtlich
																											selektive
																											Belichtung
																											durch
																											lokale
																											Einstrahlung
																											elektromagnetischer
																											Energie
																											zeitlich
																											nachgehende
																											chemische
																											Behandlung
																											der
																											Oberfläche
																											mit
																											einem
																											Oxidationsmittel
																											durchgeführt
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						It
																											is
																											possible
																											to
																											carry
																											out
																											a
																											large-area
																											chemical
																											treatment
																											of
																											the
																											surface
																											with
																											a
																											strong
																											base
																											in
																											addition
																											to
																											and
																											prior
																											in
																											time
																											to
																											the
																											locally
																											selective
																											exposure.
																		
			
				
																						Der
																											örtlich
																											selektiven
																											Belichtung
																											kann
																											zusätzlich
																											zeitlich
																											vorhergehend
																											eine
																											großflächige
																											chemische
																											Behandlung
																											der
																											Oberfläche
																											mit
																											einer
																											starken
																											Base
																											ausgeführt
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						By
																											selective
																											exposure,
																											initialized
																											regions
																											of
																											a
																											first
																											type
																											36
																											are
																											produced
																											in
																											a
																											locally
																											limited
																											manner
																											on
																											surface
																											34
																											which
																											is
																											hydrophilic
																											over
																											a
																											large
																											area.
																		
			
				
																						Durch
																											selektive
																											Belichtung
																											werden
																											lokal
																											begrenzt
																											initialisierte
																											Bereiche
																											erster
																											Art
																											36
																											auf
																											der
																											großflächig
																											hydrophilen
																											Fläche
																											34
																											erzeugt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											locally
																											selective
																											exposure
																											is
																											to
																											be
																											regarded
																											as
																											an
																											initialization
																											reaction
																											which
																											is
																											followed
																											by
																											a
																											chemical
																											treatment
																											of
																											the
																											surface.
																		
			
				
																						Die
																											örtlich
																											selektive
																											Belichtung
																											ist
																											als
																											Initialisierungsreaktion
																											anzusehen,
																											an
																											welche
																											sich
																											eine
																											chemische
																											Behandlung
																											der
																											Oberfläche
																											anschließt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											electrophotography,
																											a
																											latent
																											electrostatic
																											image
																											is
																											produced
																											by
																											selective
																											exposure
																											of
																											an
																											electrostatically
																											charged
																											photoconductor
																											drum
																											to
																											light
																											reflected
																											by
																											the
																											original
																											to
																											be
																											copied.
																		
			
				
																						In
																											der
																											Elektrophotographie
																											wird
																											durch
																											selektive
																											Belichtung
																											einer
																											elektrostatisch
																											aufgeladenen
																											Photoleiterwalze
																											mit
																											vom
																											zu
																											kopierenden
																											Original
																											reflektiertem
																											Licht
																											ein
																											latentes
																											elektrostatisches
																											Bild
																											erzeugt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Preferably
																											the
																											step
																											of
																											charging
																											the
																											substrate
																											includes
																											electrostatic
																											charging
																											of
																											an
																											electrization
																											element
																											which
																											includes
																											an
																											electrical
																											photoconductor
																											which
																											is
																											in
																											contact
																											with
																											an
																											electrical
																											conducting
																											element
																											and
																											then
																											selective
																											exposure
																											of
																											the
																											electrization
																											element
																											so
																											that
																											the
																											photoconductor
																											becomes
																											electrically
																											conducting
																											at
																											the
																											exposed
																											locations
																											and
																											the
																											electrostatic
																											charge
																											is
																											removed
																											by
																											way
																											of
																											the
																											contact
																											with
																											the
																											electrical
																											conductor.
																		
			
				
																						Vorzugsweise
																											umfasst
																											der
																											Schritt
																											des
																											Aufladens
																											des
																											Substrats
																											ein
																											elektrostatisches
																											Aufladen
																											eines
																											Elektrisierelements,
																											das
																											einen
																											elektrischen
																											Fotoleiter
																											umfasst,
																											der
																											in
																											Kontakt
																											mit
																											einem
																											elektrischen
																											Leitelement
																											steht
																											und
																											anschließend
																											selektives
																											Belichten
																											des
																											Elektrisierelements,
																											so
																											dass
																											an
																											den
																											belichteten
																											Stellen
																											der
																											Fotoleiter
																											elektrisch
																											leitend
																											wird
																											und
																											die
																											elektrostatische
																											Aufladung
																											über
																											den
																											Kontakt
																											mit
																											dem
																											elektrischen
																											Leiter
																											abgebaut
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Our
																											primary
																											focus
																											is
																											the
																											developed
																											markets
																											(OECD),
																											with
																											selective
																											exposure
																											to
																											other
																											markets.
																		
			
				
																						Unser
																											Schwerpunkt
																											liegt
																											primär
																											auf
																											den
																											Industrieländern
																											(OECD),
																											mit
																											selektiven
																											Engagements
																											in
																											anderen
																											Märkten.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Here,
																											the
																											sensitivity
																											can
																											be
																											increased
																											for
																											a
																											directed
																											beam
																											for
																											a
																											selective
																											exposure
																											(for
																											example
																											for
																											laser
																											light
																											having
																											a
																											certain
																											wavelength).
																		
			
				
																						Die
																											Empfindlichkeit
																											kann
																											dabei
																											für
																											den
																											gerichteten
																											Strahl
																											zum
																											punktuellen
																											Belichten
																											erhöht
																											werden
																											(beispielsweise
																											für
																											Laserlicht
																											einer
																											bestimmten
																											Wellenlänge).
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Optionally,
																											another
																											layer
																											of
																											a
																											photoresist
																											can
																											be
																											applied
																											on
																											the
																											layer,
																											and
																											this
																											in
																											its
																											turn
																											is
																											provided
																											with
																											a
																											structure
																											by
																											selective
																											exposure
																											to
																											light
																											or
																											by
																											embossing.
																		
			
				
																						Gegebenenfalls
																											kann
																											auf
																											die
																											Schicht
																											eine
																											weitere
																											Schicht
																											eines
																											Photolacks
																											aufgetragen
																											werden,
																											welche
																											wiederum
																											durch
																											selektives
																											Belichten
																											oder
																											Prägen
																											erneut
																											mit
																											einer
																											Struktur
																											versehen
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						This
																											resist
																											film
																											is
																											provided
																											with
																											the
																											desired
																											structures
																											by
																											selective
																											exposure
																											through
																											a
																											structured
																											chromium
																											mask
																											present
																											on
																											a
																											transparent
																											quartz
																											glass
																											carrier.
																		
			
				
																						Dieser
																											Lackfilm
																											wird
																											durch
																											selektive
																											Belichtung
																											über
																											eine
																											strukturierte
																											Chrom-Maske,
																											welche
																											sich
																											auf
																											einem
																											transparenten
																											Quartzglas-Träger
																											befindet,
																											mit
																											den
																											gewünschten
																											Strukturen
																											versehen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						As
																											described
																											in
																											more
																											detail
																											below,
																											a
																											powder
																											module
																											arranged
																											in
																											the
																											receiving
																											section
																											is
																											movably
																											supported
																											between
																											a
																											non-operating
																											position,
																											in
																											which
																											the
																											powder
																											module
																											is
																											arranged
																											at
																											a
																											certain
																											distance
																											to
																											a
																											wall
																											of
																											the
																											frame
																											construction
																											of
																											the
																											apparatus,
																											limiting
																											a
																											process
																											chamber
																											of
																											the
																											apparatus,
																											or
																											the
																											carrying
																											element
																											of
																											the
																											powder
																											module
																											(that
																											is
																											moved
																											into
																											an
																											upper
																											position)
																											cannot
																											be
																											arranged
																											or
																											is
																											not
																											arranged
																											in
																											a
																											construction
																											field
																											plane
																											of
																											the
																											apparatus,
																											in
																											which
																											the
																											selective
																											exposure
																											or
																											solidification
																											of
																											respective
																											construction
																											material
																											layers
																											is
																											carried
																											out,
																											and
																											an
																											operating
																											position,
																											in
																											which
																											the
																											powder
																											module
																											cannot
																											be
																											arranged
																											or
																											is
																											not
																											arranged
																											at
																											a
																											certain
																											distance
																											to
																											the
																											wall
																											of
																											the
																											or
																											a
																											frame
																											construction
																											of
																											the
																											apparatus,
																											limiting
																											a
																											process
																											chamber
																											of
																											the
																											apparatus,
																											or
																											the
																											carrying
																											element
																											of
																											the
																											powder
																											module
																											(that
																											is
																											moved
																											into
																											an
																											upper
																											position)
																											can
																											be
																											arranged
																											or
																											is
																											arranged
																											in
																											a
																											construction
																											field
																											plane.
																		
			
				
																						Wie
																											im
																											Weiteren
																											näher
																											beschrieben
																											wird,
																											ist
																											ein
																											in
																											dem
																											Aufnahmebereich
																											angeordnetes
																											Pulvermodul
																											zwischen
																											einer
																											Nichtbetriebsposition,
																											in
																											welcher
																											das
																											Pulvermodul
																											mit
																											einem
																											bestimmten
																											Abstand
																											zu
																											einer
																											eine
																											Prozesskammer
																											der
																											Vorrichtung
																											begrenzenden
																											Wandung
																											der
																											vorrichtungsseitigen
																											Rahmenkonstruktion
																											angeordnet
																											ist
																											bzw.
																											das
																											(in
																											eine
																											obere
																											Position
																											bewegte)
																											pulvermodulseitige
																											Tragelement
																											nicht
																											in
																											einer
																											Baufeldebene
																											der
																											Vorrichtung,
																											in
																											welcher
																											die
																											selektive
																											Belichtung
																											bzw.
																											Verfestigung
																											jeweiliger
																											Baumaterialschichten
																											erfolgt,
																											anordenbar
																											bzw.
																											angeordnet
																											ist,
																											und
																											einer
																											Betriebsposition,
																											in
																											welcher
																											das
																											Pulvermodul
																											nicht
																											mit
																											einem
																											bestimmten
																											Abstand
																											zu
																											der
																											eine
																											Prozesskammer
																											der
																											Vorrichtung
																											begrenzenden
																											Wandung
																											der
																											bzw.
																											einer
																											vorrichtungsseitigen
																											Rahmenkonstruktion
																											angeordnet
																											ist
																											bzw.
																											das
																											(in
																											eine
																											obere
																											Position
																											bewegte)
																											pulvermodulseitige
																											Tragelement
																											in
																											der
																											Baufeldebene
																											anordenbar
																											bzw.
																											angeordnet
																											ist,
																											bewegbar
																											gelagert.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						By
																											selective
																											irradiation
																											or
																											exposure
																											of
																											the
																											composition,
																											it
																											is
																											possible,
																											for
																											example
																											at
																											local
																											sites,
																											to
																											trigger
																											controlled
																											decomposition
																											of
																											the
																											metal
																											complex,
																											which
																											leads
																											to
																											a
																											chemical
																											potential
																											difference,
																											which
																											in
																											turn
																											leads
																											to
																											the
																											directed
																											diffusion
																											of
																											the
																											metal
																											complexes
																											and
																											to
																											the
																											formation
																											of
																											a
																											refractive
																											index
																											gradient.
																		
			
				
																						Durch
																											selektive
																											Bestrahlung
																											oder
																											Belichtung
																											der
																											Zusammensetzung
																											kann
																											z.
																											B.
																											an
																											lokalen
																											Stellen
																											gezielt
																											eine
																											Zersetzung
																											des
																											Metallkomplexes
																											ausgelöst
																											werden,
																											die
																											zu
																											einer
																											chemischen
																											Potentialdifferenz
																											führt,
																											die
																											wiederum
																											zur
																											gerichteten
																											Diffusion
																											der
																											Metallkomplexe
																											und
																											zur
																											Ausbildung
																											eines
																											Brechzahlgradienten
																											führt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Furthermore,
																											the
																											printing
																											industry
																											has
																											disclosed
																											methods
																											for
																											the
																											subsequent
																											patterning
																											of
																											printing
																											forms,
																											for
																											example
																											photopolymer
																											plates
																											for
																											flexographic
																											printing
																											or
																											printing
																											plates
																											for
																											offset
																											printing,
																											in
																											which
																											the
																											printed
																											image
																											is
																											produced
																											on
																											a
																											substrate
																											which
																											has
																											been
																											coated
																											over
																											the
																											entire
																											surface
																											by
																											writing
																											or
																											selective
																											exposure
																											by
																											means
																											of
																											a
																											mask.
																		
			
				
																						Des
																											weiteren
																											sind
																											aus
																											der
																											Druckindustrie
																											Verfahren
																											zur
																											nachträglichen
																											Strukturierung
																											von
																											Druckformen,
																											beispielsweise
																											Photopolymerplatten
																											für
																											den
																											Flexodruck
																											oder
																											Druckplatten
																											für
																											den
																											Offsetdruck
																											bekannt,
																											bei
																											denen
																											durch
																											Beschreiben
																											oder
																											selektives
																											Belichten
																											mittels
																											einer
																											Maske
																											eines
																											vollflächig
																											beschichteten
																											Substrates
																											das
																											Druckbild
																											erzeugt
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Here,
																											a
																											2D
																											section
																											of
																											the
																											desired
																											component
																											is
																											produced
																											by
																											selective
																											exposure
																											on
																											a
																											building
																											platform.
																		
			
				
																						Dabei
																											wird
																											auf
																											einer
																											unterhalb
																											der
																											Badoberfläche
																											befindlichen
																											horizontal
																											ausgerichteten
																											Bauplattform
																											durch
																											selektive
																											Belichtung
																											ein
																											2D-Schnitt
																											des
																											gewünschten
																											Bauteils
																											hergestellt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Here,
																											selective
																											exposure
																											of
																											the
																											individual
																											layers
																											is
																											controlled
																											so
																											as
																											to
																											obtain
																											a
																											hollow
																											body
																											of
																											the
																											cured
																											material,
																											which
																											is
																											then
																											used
																											as
																											a
																											casting
																											mold.
																		
			
				
																						Dabei
																											wird
																											die
																											selektive
																											Belichtung
																											der
																											Schichten
																											so
																											gesteuert,
																											dass
																											ein
																											Hohlkörper
																											aus
																											dem
																											ausgehärteten
																											Material
																											entsteht,
																											der
																											nun
																											als
																											Gussform
																											verwendet
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2