Translation of "Silicon disk" in German
																						After
																											1
																											hour,
																											a
																											glossy
																											black
																											film
																											had
																											formed
																											on
																											the
																											silicon
																											disk.
																		
			
				
																						Nach
																											1
																											Stunde
																											hatte
																											sich
																											auf
																											der
																											Siliciumscheibe
																											eine
																											glänzende
																											schwarze
																											Folie
																											gebildet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											membrane
																											is
																											a
																											silicon
																											disk
																											provided
																											with
																											window-like
																											perforations.
																		
			
				
																						Die
																											Membran
																											ist
																											eine
																											mit
																											fensterartigen
																											Durchbrechungen
																											versehene
																											Siliziumscheibe.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						It
																											is
																											proposed
																											to
																											produce
																											this
																											sensor
																											from
																											a
																											very
																											thin
																											silicon
																											disk.
																		
			
				
																						Es
																											wird
																											vorgeschlagen,
																											diesen
																											Sensor
																											aus
																											einer
																											sehr
																											dünnen
																											Siliziumscheibe
																											herzustellen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											this
																											case
																											the
																											current
																											flow
																											can
																											be
																											optimized
																											by
																											an
																											appropriate
																											configuration
																											of
																											the
																											silicon
																											disk.
																		
			
				
																						Der
																											Stromfluß
																											kann
																											hierbei
																											durch
																											eine
																											entsprechende
																											Strukturierung
																											der
																											Siliziumscheibe
																											optimiert
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						This
																											silicon
																											slice
																											5
																											forms
																											the
																											ion
																											gate,
																											and
																											is
																											glued
																											to
																											end
																											2.2
																											of
																											silicon
																											disk
																											2.
																		
			
				
																						Diese
																											das
																											Ionentor
																											bildende
																											Siliziumscheibe
																											5
																											wird
																											auf
																											die
																											Stirnfläche
																											2.2
																											der
																											Siliziumscheibe
																											2
																											aufgeklebt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											silicon
																											disk
																											was
																											then
																											placed
																											for
																											2×4
																											hours
																											in
																											25
																											ml
																											of
																											chloroform
																											in
																											each
																											case,
																											and
																											dried.
																		
			
				
																						Die
																											Siliciumscheibe
																											wurde
																											danach
																											2
																											×
																											4
																											Stunden
																											in
																											je
																											25
																											ml
																											Chloroform
																											eingelegt
																											und
																											getrocknet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						These
																											are
																											built
																											in
																											a
																											numerous
																											process
																											steps
																											on
																											a
																											ultra-clean
																											silicon
																											disk
																											(the
																											wafer).
																		
			
				
																						Diese
																											werden
																											durch
																											vielerlei
																											Fertigungsschritte
																											in
																											einer
																											hochreinen
																											monokristallinen
																											Siliziumscheibe
																											(dem
																											Wafer)
																											realisiert.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						The
																											frontal
																											areas
																											prepared
																											in
																											this
																											manner
																											are
																											attached
																											to
																											a
																											correspondingly
																											prepared
																											surface
																											of
																											the
																											silicon
																											disk
																											and
																											connected
																											with
																											it
																											by
																											means
																											of
																											heat
																											and
																											pressure.
																		
			
				
																						Die
																											so
																											vorbereiteten
																											Stirnflächen
																											werden
																											auf
																											eine
																											entsprechend
																											vorbereitete
																											Oberfläche
																											der
																											Siliziumscheibe
																											aufgeklebt
																											und
																											mittels
																											Wärme
																											und
																											Druck
																											stoffschlüssig
																											mit
																											dieser
																											verbunden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Since
																											each
																											individual
																											crosspiece
																											is
																											resilient
																											in
																											itself,
																											it
																											can
																											compensate,
																											without
																											any
																											problems,
																											for
																											small
																											differences
																											in
																											length
																											which
																											are
																											caused
																											by
																											an
																											incomplete
																											processing
																											of
																											the
																											surface
																											of
																											the
																											silicon
																											disk
																											or
																											of
																											the
																											copper
																											spiral.
																		
			
				
																						Da
																											jeder
																											einzelne
																											Steg
																											für
																											sich
																											federnd
																											ist,
																											kann
																											er
																											kleine
																											Längendifferenzen,
																											die
																											durch
																											eine
																											nicht
																											vollkommene
																											Oberflächenbearbeitung
																											der
																											Siliziumscheibe
																											oder
																											der
																											Kupferspirale
																											bedingt
																											sind,
																											ohne
																											weiteres
																											ausgleichen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Since
																											the
																											copper
																											disk
																											material-connected
																											with
																											the
																											one
																											end
																											of
																											the
																											wire
																											brush,
																											i.e.
																											by
																											means
																											of
																											soldering,
																											welding
																											or
																											diffusion-bonding,
																											expands
																											more
																											when
																											heated
																											than
																											the
																											silicon
																											disk
																											material-connected
																											with
																											the
																											other
																											end
																											of
																											the
																											wire
																											brush,
																											the
																											outside
																											individual
																											wires
																											must
																											compensate
																											for
																											a
																											larger
																											radial
																											difference
																											in
																											length
																											than
																											those
																											which
																											are
																											further
																											inside.
																		
			
				
																						Da
																											sich
																											die
																											mit
																											den
																											einen
																											Enden
																											der
																											Drahtbürste
																											stoffschlüssig,
																											d.
																											h.
																											durch
																											Löten,
																											Schweißen
																											oder
																											Diffusionsbonden,
																											verbundene
																											Kupferscheibe
																											beim
																											Erwärmen
																											stärker
																											ausdehnt
																											als
																											die
																											mit
																											dem
																											anderen
																											Ende
																											der
																											Drahtbürste
																											stoffschlüssig
																											verbundene
																											Siliziumscheibe,
																											müssen
																											die
																											außen
																											liegenden
																											Einzeldrähte
																											eine
																											größere
																											radiale
																											Längendifferenz
																											ausgleichen
																											als
																											die
																											weiter
																											innenliegenden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						An
																											essential
																											characteristic
																											of
																											pressure-coated
																											semiconductor
																											components
																											is
																											the
																											use
																											of
																											a
																											molybdenum
																											disk
																											and/or
																											a
																											tungsten
																											disk
																											between
																											a
																											silicon
																											disk
																											and
																											a
																											copper
																											disk
																											serving
																											as
																											a
																											heat
																											reduction.
																		
			
				
																						Wesentliches
																											Merkmal
																											druckkontaktierter
																											Halbleiterbauelemente
																											ist
																											die
																											Verwendung
																											einer
																											Molybdän-Scheibe
																											und/oder
																											einer
																											Wolfram-Scheibe
																											zwischen
																											Siliziumscheibe
																											und
																											den
																											als
																											Wärmesenke
																											dienenden
																											Kupferscheiben.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											radial
																											expansion
																											differences
																											between
																											silicon
																											disk
																											and
																											cooling
																											body
																											can
																											be
																											elastically
																											compensated
																											for
																											by
																											the
																											lengths
																											of
																											the
																											individual
																											crosspieces
																											caused
																											by
																											the
																											V-shape.
																		
			
				
																						Die
																											radialen
																											Dehnungsunterschiede
																											zwischen
																											Siliziumscheibe
																											und
																											Kühlkörper
																											können
																											aus
																											der
																											durch
																											die
																											V-Form
																											bedingten
																											Längenvorgabe
																											der
																											einzelnen
																											Stege
																											elastisch
																											ausgeglichen
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											upper
																											frontal
																											area
																											1.5
																											of
																											the
																											metal
																											tape
																											1
																											is
																											later
																											material-connected
																											with
																											a
																											thermal
																											conduction
																											disk
																											and
																											the
																											lower
																											frontal
																											area
																											1.6
																											of
																											the
																											metal
																											crosspieces
																											1.2
																											with
																											a
																											silicon
																											disk.
																		
			
				
																						Die
																											obere
																											Stirnfläche
																											1.5
																											des
																											Metallbandes
																											1
																											wird
																											später
																											mit
																											einer
																											Wärmeableitscheibe,
																											die
																											untere
																											Stirnfläche
																											1.6
																											der
																											Metallstege
																											1.2
																											mit
																											einer
																											Siliziumscheibe
																											stoffschlüssig
																											verbunden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											radial
																											expansion
																											differences
																											between
																											a
																											thermal
																											conduction
																											disk
																											fastened
																											to
																											the
																											upper
																											frontal
																											area
																											2.5
																											and
																											a
																											silicon
																											disk
																											fastened
																											to
																											the
																											lower
																											frontal
																											area
																											2.6
																											of
																											the
																											crosspieces
																											2.2
																											is
																											compensated
																											for
																											by
																											the
																											V-shape
																											of
																											the
																											metal
																											crosspieces
																											2.2
																											owing
																											to
																											the
																											fact
																											that
																											the
																											metal
																											crosspieces
																											2.2
																											are
																											more
																											or
																											less
																											twisted.
																		
			
				
																						Die
																											radiale
																											Ausdehnungsdifferenz
																											zwischen
																											einer
																											an
																											der
																											oberen
																											Stirnfläche
																											2.5
																											befestigten
																											Wärmeableitscheibe
																											und
																											einer
																											an
																											der
																											unteren
																											Stirnfläche
																											2.6
																											der
																											Stege
																											2.2
																											befestigten
																											Siliziumscheibe
																											wird
																											durch
																											die
																											V-Form
																											der
																											Metallstege
																											2.2
																											ausgeglichen,
																											indem
																											sich
																											die
																											Metallstege
																											2.2
																											mehr
																											oder
																											weniger
																											stark
																											verwinden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						11A
																											shows
																											a
																											first
																											embodiment
																											of
																											such
																											detectors
																											connected
																											to
																											mask
																											21,
																											where
																											detectors
																											100a,
																											b
																											are
																											placed
																											as
																											individual
																											elements
																											on
																											corresponding
																											openings
																											105a,
																											105b
																											of
																											the
																											silicon
																											disk.
																		
			
				
																						11A
																											ist
																											eine
																											erste
																											Ausführungsform
																											derartiger
																											mit
																											der
																											Belichtungsmaske
																											21
																											verbundener
																											Detektoren
																											dargestellt,
																											bei
																											der
																											die
																											Detektoren
																											100a,
																											b
																											als
																											Einzelelemente
																											auf
																											entsprechende
																											Durchbrüche
																											105a,
																											105b
																											der
																											Siliciumscheibe
																											aufgesetzt
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Then
																											the
																											frontal
																											areas
																											of
																											the
																											crosspieces
																											are
																											prepared
																											for
																											the
																											connection
																											with
																											the
																											silicon
																											disk
																											by
																											placing,
																											for
																											example,
																											gold
																											or
																											solder
																											on
																											them.
																		
			
				
																						Anschließend
																											werden
																											die
																											Stirnfläche
																											der
																											Stege
																											für
																											die
																											Verbindung
																											mit
																											der
																											Siliziumscheibe
																											vorbereitet,
																											indem
																											beispielsweise
																											Gold
																											oder
																											Lot
																											aufgebracht
																											wird.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											surface
																											of
																											the
																											silicon
																											disk
																											is
																											excellent
																											with
																											respect
																											to
																											flatness
																											and
																											smoothness,
																											but
																											the
																											disadvantage
																											of
																											this
																											disk
																											is
																											that
																											its
																											diameter
																											is
																											restricted
																											to
																											the
																											diameters
																											of
																											approximately
																											15
																											cm
																											maximum
																											usual
																											for
																											silicon
																											wafers.
																											SUMMARY
																											OF
																											THE
																											INVENTION
																		
			
				
																						Die
																											Oberfläche
																											der
																											Siliciumscheibe
																											ist
																											zwar
																											bezüglich
																											Ebenheit
																											und
																											Oberflächenglätte
																											hervorragend,
																											nachteilig
																											an
																											der
																											Platte
																											ist
																											jedoch,
																											daß
																											ihr
																											Durchmesser
																											auf
																											die
																											bei
																											Siliciumwafern
																											üblichen
																											Durchmesser
																											von
																											maximal
																											etwa
																											15
																											cm
																											beschränkt
																											ist.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						By
																											centrifuging
																											the
																											solution
																											at
																											800
																											rpm
																											onto
																											a
																											silicon
																											disk
																											coated
																											with
																											a
																											bonding
																											aid,
																											followed
																											by
																											drying
																											for
																											30
																											minutes
																											at
																											60°
																											C.
																											in
																											a
																											circulating
																											air
																											oven,
																											23
																											?m
																											thick
																											homogeneous
																											layers
																											are
																											obtained.
																											After
																											exposure
																											for
																											40
																											s
																											through
																											a
																											mask
																											with
																											a
																											350
																											W
																											superpressure
																											mercury
																											lamp,
																											the
																											layers
																											are
																											developed
																											with
																											gamma-butyrolactone/xylene
																											(volumetric
																											ratio
																											1:2)
																											and
																											then
																											rinsed
																											with
																											xylene
																											in
																											a
																											spraying
																											process
																											to
																											produce
																											structured
																											layers
																											having
																											sharp
																											contours.
																		
			
				
																						Durch
																											Aufschleudern
																											der
																											Lösung
																											bei
																											800
																											Umdrehungen/Minute
																											auf
																											eine
																											mit
																											einem
																											Haftvermittler
																											beschichtete
																											Siliciumscheibe
																											werden
																											nach
																											30minütigem
																											Trocknen
																											bei
																											60°C
																											in
																											einem
																											Umluftofen
																											23
																											µm
																											dicke
																											homogene
																											Schichten
																											erhalten,
																											die
																											nach
																											einer
																											Belichtung
																											von
																											40
																											s
																											mit
																											einer
																											350
																											W-Quecksilberhöchstdrucklampe
																											durch
																											eine
																											Maske
																											mit
																											?-Butyrolacton/Xylol
																											(Volumenverhältnis
																											1:2)
																											und
																											Nachspülen
																											mit
																											Xylol
																											im
																											Sprühverfahren
																											zu
																											konturenscharfen
																											strukturierten
																											Schichten
																											entwickelt
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											surface
																											of
																											the
																											silicon
																											disk
																											is
																											excellent
																											with
																											respect
																											to
																											flatness
																											and
																											smoothness,
																											but
																											the
																											disadvantage
																											of
																											this
																											disk
																											is
																											that
																											its
																											diameter
																											is
																											restricted
																											to
																											the
																											diameters
																											of
																											approximately
																											15
																											cm
																											maximum
																											usual
																											for
																											silicon
																											wafers.
																		
			
				
																						Die
																											Oberfläche
																											der
																											Siliciumscheibe
																											ist
																											zwar
																											bezüglich
																											Ebenheit
																											und
																											Oberflächenglätte
																											hervorragend,
																											nachteilig
																											an
																											der
																											Platte
																											ist
																											jedoch,
																											daß
																											ihr
																											Durchmesser
																											auf
																											die
																											bei
																											Silic-iumwafern
																											üblichen
																											Durchmesser
																											von
																											maximal
																											etwa
																											15
																											cm
																											beschränkt
																											ist.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Contrary
																											to
																											known
																											technologies
																											there
																											are
																											produced
																											on
																											a
																											silicon
																											disk
																											or
																											wafer
																											electrically
																											conductive
																											regions
																											with
																											standard
																											clearances
																											which
																											are
																											arranged
																											in
																											accordance
																											with
																											a
																											predetermined
																											raster
																											or
																											grid.
																		
			
				
																						Im
																											Gegensatz
																											zu
																											bekannten
																											Technologien
																											werden
																											auf
																											einer
																											Siliziumscheibe
																											galvanisch
																											leitende
																											Bereiche
																											mit
																											standardisierten
																											Aussparungen,
																											welche
																											nach
																											einem
																											vorbestimmten
																											Raster
																											angeordnet
																											sind,
																											beispielsweise
																											durch
																											eine
																											Ätz-oder
																											Auftragungstechnik
																											erzeugt.
															 
				
		 EuroPat v2