Translation of "Trilayer" in German

The invention relates to a method of making trenches with substantially vertical sidewalls in silicon through reactive ion etching, using a photoresist mask made in a trilayer process.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Gräben mit im wesentlichen vertikalen Seitenwänden in Silicium durch reaktives lonenätzen und unter Verwendung einer Photoresistmaske, die in einem Dreilagenprozeß hergestellt wird.
EuroPat v2
An advantage of the above described trilayer process is that it permits the making of a thick resist mask with vertical sidewalls suitable for reactive ion etching of deep trenches.
Ein Vorteil des zuvor beschriebene Dreilagenprozesses ist, daß mit ihm eine dicke ' Resistmaske mit vertikalen Seitenwänden, die sich für das reaktive lonenätzen von tiefen Gräben eignet, hergestellt werden kann.
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As specified repeatedly, it is possible to make with the trilayer process a thick photoresist mask with vertical sidewalls so that even with a selectivity for CF4 of approximately 1 for silicon to photoresist the reactive ion etching of silicon with CF4 using a photoresist mask is possible if a photoresist mask of a corresponding thickness is used.
Wie mehrfach beschrieben, ist es mit dem Dreilagenprozeß möglich, eine dicke Photoresistmaske mit vertikalen Seitenwänden herzustellen, so daß selbst bei einer Selektivität von CF 4 von etwa 1 für Silicium zu Photoresist das reaktive lonenätzen von Silicium mit CF4 unter Verwendung einer Photoresistmaske möglich sein sollte, wenn die Dicke der Photoresistmaske entsprechend gewählt wird.
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The thick photoresist mask required for this process is made in a trilayer process whose essential features with respect to the material selected for individual layers, and the reaction gases and pressure are not described in prior art.
Die für diesen Prozeß erforderliche dicke Photoresistmaske wird in einem Dreilagenprozeß herge stellt, dessen wesentliche Merkmale im Hinblick auf die Materialauswahl für einzelne Schichten und die Reaktionsgase und Drucke nicht im Stand der Technik beschrieben sind.
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Another advantage of the trilayer process is that the disturbing shadow projection effect in electron beam lithography caused by an electron scattering in the thick resist layer 2 and the substrate material 1, and thereby causing localized variation in the beam dose, can be avoided to a considerable extent.
Ein weiterer Vorteil des Dreilagenprozesses liegt darin, daß der störende Schattenwurfeffekt in der Elektronenstrahllithographie, der auf eine Elektronenstreuung in dem Resist 2 und dem Substratmaterial 1 zurückzuführen ist und zu unterschiedlichen Dosen führt, weitgehend vermieden werden kann.
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Even if a photoresist mask, as the one made in accordance with the above described trilayer process, comprises vertical sidewalls this does not necessarily mean that trenches with vertical sidewalls are obtained in the silicon, too.
Selbst wenn eine Photoresistmaske wie die nach dem zuvor beschriebenen Dreilagenprozeß hergestellte vertikale Seitenwände aufweist, ist noch nicht gewährleistet, daß auch im Silicium Gräben mit vertikalen Seitenwänden erhalten werden.
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The thick photoresist mask required for this purpose, with vertical sidewalls of the patterns to be transferred into the silicon substrate is made in a trilayer process.
Die hierzu erforderliche dicke Photoresistmaske mit vertikalen Seitenwänden der in das Siliciumsubstrat zu übertragenden Muster wird in einem Dreilagenprozeß hergestellt.
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The trilayer process known per se is modified in that silicon nitride is deposited as nitride layer 3 through plasma deposition instead of silicon dioxide.
Der an sich bekannte Dreilagenprozeß wird modifiziert, indem an Stelle von Siliciumdioxid Siliciumnitrid durch Plasmaabscheidung als Schicht 3 aufgetragen wird.
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An advantage of the trilayer process is that it permits the direct production of the thick photoresist mask that can be used for etching.
Ein Vorteil des Dreilagenprozesses ist, daß mit ihm direkt die zum Ätzen verwendbare dicke Photoresistmaske hergestellt werden kann.
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Alternatively, the carrier film can be bonded to adhesive films (e.g., PVB films) and bonded as a three layer arrangement (trilayer) to inner and outer pane 2, 3 .
Alternativ kann die Trägerfolie mit Klebefolien (z.B. PVB-Folien) verbunden und als Dreischichtenanordnung (Trilayer) mit Innen- und Außenscheibe 2, 3 verklebt werden.
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Alternatively, the carrier film can be bonded to adhesive films (e.g., PVB films) and glued as a trilayer arrangement to the inner and outer pane 2, 3 .
Alternativ kann die Trägerfolie mit Klebefolien (z.B. PVB-Folien) verbunden und als Dreischichtenanordnung (Trilayer) mit Innen- und Außenscheibe 2, 3 verklebt werden.
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Also multiple layers, in particular trilayers, are conceivable.
Es sind auch Mehrfachschichten, insbesondere Trilayer denkbar.
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In particular triple layers (so-called trilayers) are possible.
Hier sind insbesondere Dreifachschichten (sogenannte Trilayer) möglich.
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Multiple layers, in particular trilayers, are also conceivable.
Es sind auch Mehrfachschichten, insbesondere Trilayer denkbar.
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