Translation of "Hauptmaske" in English
																						Standardmässig
																											wird
																											das
																											Bezugsprofil
																											aus
																											der
																											Hauptmaske
																											übernommen.
																		
			
				
																						The
																											default
																											setting
																											is
																											that
																											the
																											reference
																											profile
																											is
																											transferred
																											from
																											the
																											main
																											screen.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Jetzt
																											wird
																											das
																											ganze
																											Photoresistmaterial
																											entfernt
																											-
																											die
																											gehärtete
																											Hauptmaske
																											14
																											wird
																											durch
																											Veraschung
																											entfernt.
																		
			
				
																						All
																											photoresist
																											is
																											now
																											removed,
																											the
																											hardened
																											layer
																											14
																											being
																											removed
																											by
																											ashing.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Auf
																											einen
																											Blick
																											sind
																											in
																											der
																											Hauptmaske
																											mit
																											Maschinenansicht
																											alle
																											Meldungen,
																											Befehle
																											und
																											Parameter
																											ersichtlich.
																		
			
				
																						All
																											messages,
																											commands
																											and
																											parameters
																											are
																											visible
																											at
																											a
																											glance
																											in
																											the
																											main
																											screen
																											with
																											machine
																											view.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Die
																											Hauptmaske
																											zeigt
																											alle
																											Grundfunk-
																											tionen
																											wie
																											Werkzeugliste,
																											Übersicht
																											der
																											Ein-Auslagerschleuse
																											und
																											Status
																											der
																											Werkzeugplätze.
																		
			
				
																						The
																											principal
																											mask
																											shows
																											all
																											basic
																											functions
																											such
																											as
																											tool
																											list,
																											survey
																											of
																											the
																											storing
																											and
																											retrieving
																											gate
																											and
																											status
																											of
																											the
																											tool
																											places.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Als
																											nächstes
																											wird
																											die
																											Maskierungsschicht
																											14
																											niedergeschlagen,
																											und
																											eine
																											Hauptmaske
																											durch
																											eine
																											dritte
																											photolithographische
																											Maske
																											definiert.
																		
			
				
																						Next
																											the
																											masking
																											layer
																											14
																											is
																											deposited
																											and
																											a
																											master
																											image
																											mask
																											is
																											defined
																											by
																											a
																											third
																											photolithographic
																											mask.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Nach
																											Entfernung
																											dieser
																											früheren
																											Photoschicht
																											26
																											und
																											28,
																											wird
																											eine
																											neue
																											Schicht
																											30
																											und
																											32
																											aufgebracht
																											und
																											durch
																											eine
																											fünfte
																											lithographische
																											Maske
																											definiert,
																											die
																											alle
																											Bereiche
																											mit
																											Ausnahme
																											des
																											Bereiches,
																											in
																											dem
																											Arsen-Emitter
																											13
																											erwünscht
																											sind,
																											die
																											vorher
																											durch
																											die
																											Hauptmaske
																											14
																											definiert
																											wurden,
																											abblockt.
																		
			
				
																						After
																											removal
																											of
																											the
																											photo
																											layer
																											34,
																											36,
																											and
																											38,
																											a
																											new
																											layer
																											30
																											and
																											32
																											is
																											applied
																											and
																											defined
																											by
																											a
																											sixth
																											photolithographic
																											mask
																											which
																											blocks
																											out
																											all
																											areas
																											except
																											where
																											an
																											arsenic
																											emitter
																											13
																											is
																											desired
																											and
																											has
																											been
																											defined
																											previously
																											by
																											the
																											master
																											image
																											mask
																											14.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Eine
																											gute
																											Leistungsverfolgung
																											ist
																											gesichert
																											durch
																											Verwendung
																											nur
																											der
																											einen
																											Hauptmaske
																											14
																											zur
																											Definition
																											der
																											Bilder
																											und
																											Abstände.
																		
			
				
																						Good
																											performance
																											tracking
																											is
																											assured
																											by
																											the
																											one
																											mask
																											scheme
																											using
																											the
																											master
																											image
																											mask
																											14
																											for
																											defining
																											images
																											and
																											spacings.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						2A
																											zeigt
																											den
																											nächsten
																											Schritt,
																											wo
																											eine
																											Schicht
																											aus
																											Photoresistmaterial
																											14
																											auf
																											der
																											Oberfläche
																											der
																											Siliciumdioxidschicht
																											12
																											niedergeschlagen
																											wird,
																											die
																											als
																											Hauptmaske
																											für
																											die
																											selektive
																											Blockierung
																											dient.
																		
			
				
																						2A
																											illustrates
																											the
																											next
																											step
																											where
																											a
																											layer
																											of
																											photoresist
																											material
																											14
																											is
																											deposited
																											on
																											the
																											surface
																											of
																											the
																											silicon
																											dioxide
																											layer
																											12,
																											which
																											will
																											serve
																											as
																											the
																											master
																											image
																											mask
																											for
																											the
																											selective
																											blocking
																											technique.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Jetzt
																											wird
																											die
																											Hauptmaske
																											nicht
																											mehr
																											gebraucht
																											und
																											daher
																											mit
																											der
																											darüberliegenden
																											dritten
																											selektiv
																											blockierenden
																											Photoresistmaske
																											durch
																											Ätzen
																											in
																											einem
																											0
																											2
																											-Plasma
																											bei
																											etwa
																											500
																											Watt
																											in
																											einer
																											reaktiven
																											Ionenätzkammer
																											während
																											etwa
																											30
																											Minuten
																											entfernt.
																		
			
				
																						At
																											this
																											point,
																											the
																											master
																											image
																											mask
																											is
																											no
																											longer
																											required
																											and
																											therefore
																											it,
																											along
																											with
																											the
																											overlying
																											third
																											photoresist
																											selective
																											blocking
																											mask
																											are
																											removed
																											by
																											etching
																											in
																											an
																											O2
																											plasma
																											at
																											around
																											500
																											watts
																											in
																											a
																											reactive
																											ion-etching
																											chamber
																											for
																											about
																											30
																											minutes.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						2A
																											dargestellten
																											Struktur
																											während
																											eines
																											späteren
																											Schrittes,
																											in
																											dem
																											das
																											Muster
																											der
																											Hauptmaske
																											in
																											der
																											Photoresistschicht
																											ausgebildet
																											wurde
																											und
																											diese
																											Maske
																											gehärtet
																											wurde,
																		
			
				
																						2A
																											during
																											a
																											subsequent
																											step
																											when
																											the
																											photoresist
																											layer
																											has
																											been
																											patterned
																											into
																											a
																											master
																											image
																											mask
																											and
																											that
																											mask
																											has
																											been
																											hardened.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Nach
																											Entfernung
																											dieser
																											früheren
																											Sperrmasken
																											34,
																											36
																											und
																											38,
																											wird
																											eine
																											neue
																											zweite
																											Photoresistschicht
																											aufgebracht
																											und
																											durch
																											eine
																											sechste
																											lithographische
																											Maske
																											die
																											Sperrmasken
																											30
																											und
																											32
																											definiert,
																											die
																											alle
																											Bereiche
																											mit
																											Ausnahme
																											des
																											Bereiches,
																											in
																											dem
																											Emitter
																											13
																											erwünscht
																											sind,
																											die
																											vorher
																											durch
																											die
																											Hauptmaske
																											14
																											definiert
																											wurden,
																											abblockt.
																		
			
				
																						After
																											removal
																											of
																											the
																											photo
																											layer
																											34,
																											36,
																											and
																											38,
																											a
																											new
																											layer
																											30
																											and
																											32
																											is
																											applied
																											and
																											defined
																											by
																											a
																											sixth
																											photolithographic
																											mask
																											which
																											blocks
																											out
																											all
																											areas
																											except
																											where
																											an
																											arsenic
																											emitter
																											13
																											is
																											desired
																											and
																											has
																											been
																											defined
																											previously
																											by
																											the
																											master
																											image
																											mask
																											14.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Jetzt
																											wird
																											die
																											Hauptmaske
																											nicht
																											mehr
																											gebraucht
																											und
																											daher
																											mit
																											der
																											darüberliegenden
																											dritten
																											selektiv
																											blockierenden
																											Photoresistmaske
																											durch
																											Ätzen
																											in
																											einem
																											0
																											2
																											-Plasma
																											bei
																											etwa
																											500
																											Watt
																											in
																											einer
																											reaktiven
																											lonenätzkammer
																											während
																											etwa
																											30
																											Minuten
																											entfernt.
																		
			
				
																						At
																											this
																											point,
																											the
																											master
																											image
																											mask
																											is
																											no
																											longer
																											required
																											and
																											therefore
																											it,
																											along
																											with
																											the
																											overlying
																											third
																											photoresist
																											selective
																											blocking
																											mask
																											are
																											removed
																											by
																											etching
																											in
																											an
																											O2
																											plasma
																											at
																											around
																											500
																											watts
																											in
																											a
																											reactive
																											ion-etching
																											chamber
																											for
																											about
																											30
																											minutes.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Wenn
																											Sie
																											zuvor
																											alle
																											anderen
																											Vorgabedaten
																											in
																											der
																											Hauptmaske
																											des
																											Presssitzmoduls
																											definiert
																											haben,
																											werden
																											hier
																											automatisch
																											das
																											erforderliche
																											Kleinst-
																											und
																											Größtübermaß
																											eingetragen.
																		
			
				
																						If
																											you
																											have
																											defined
																											all
																											data
																											in
																											the
																											main
																											mask
																											before,
																											the
																											required
																											lowest
																											and
																											highest
																											interference
																											will
																											be
																											entered
																											automatically.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Sie
																											haben
																											jetzt
																											die
																											Möglichkeit,
																											das
																											bereits
																											in
																											der
																											Hauptmaske
																											"Abmaße"
																											angegebene
																											Achsabstandsabmaß
																											für
																											das
																											Stirnradpaar
																											innerhalb
																											der
																											Toleranzgenzen
																											zu
																											verändern.
																		
			
				
																						Now
																											you
																											can
																											change
																											the
																											centre
																											distance
																											allowance,
																											that
																											is
																											already
																											given
																											in
																											the
																											main
																											mask
																											for
																											the
																											'Allowances',
																											within
																											the
																											tolerance
																											limit.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Bei
																											erfolgreichem
																											Abschluss
																											sehen
																											Sie
																											zwei
																											Optionen
																											in
																											der
																											Hauptmaske
																											"Foto-Wiederherstellung
																											gelöschter"
																											und
																											"Lost
																											Photo
																											Wiederherstellung"
																		
			
				
																						On
																											successful
																											completion,
																											you
																											will
																											see
																											two
																											options
																											in
																											the
																											main
																											screen,
																											"Deleted
																											Photo
																											Recovery"
																											and
																											"Lost
																											Photo
																											Recovery"
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Das
																											erste
																											Mal,
																											wenn
																											Sie
																											es
																											verwenden,
																											werden
																											Sie
																											eine
																											Bestätigungs-SMS,
																											die
																											Sie
																											in
																											Ordnung
																											zu
																											bringen
																											in
																											der
																											Hauptmaske
																											des
																											Programms,
																											um
																											Ihre
																											Identität
																											zu
																											überprüfen.
																		
			
				
																						The
																											first
																											time
																											you
																											use
																											it
																											you
																											will
																											be
																											sent
																											a
																											confirmation
																											SMS
																											that
																											you
																											put
																											in
																											the
																											main
																											screen
																											of
																											the
																											program
																											in
																											order
																											to
																											verify
																											your
																											identity.
															 
				
		 CCAligned v1
			
																						Meine
																											Hauptmaske
																											ist
																											ein
																											Scubapro
																											Spectre,
																											welches
																											die
																											einzige
																											Maske
																											ist,
																											die
																											ich
																											bisher
																											gefunden
																											habe
																											und
																											die
																											gegen
																											mein
																											großes
																											Gesicht
																											dichtet.
																		
			
				
																						My
																											main
																											mask
																											is
																											a
																											Scubapro
																											Spectre,
																											which
																											is
																											the
																											only
																											mask
																											I
																											found
																											so
																											far
																											that
																											seals
																											against
																											my
																											big
																											face.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Die
																											Hauptmaske
																											der
																											Anwendung
																											zeigt
																											das
																											Datum,
																											die
																											Uhrzeit,
																											die
																											Kennnummer,
																											die
																											Laufnummer
																											sowie
																											denStatus
																											(IO/NIO)
																											der
																											jeweiligen
																											Verschraubung
																											direkt
																											auf
																											der
																											rechten
																											Statusleiste
																											der
																											Grafik
																											an.
																		
			
				
																						The
																											main
																											screen
																											presents
																											the
																											date,
																											the
																											time,
																											the
																											ID,
																											the
																											sequence
																											number
																											and
																											the
																											status
																											of
																											each
																											connection
																											(OK/nOK)
																											on
																											the
																											right
																											side
																											of
																											thescreen.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Da
																											das
																											Suchfenster
																											sich
																											nicht
																											automatisch
																											schließt,
																											können
																											Sie
																											gleichzeitig
																											das
																											Auslegungsfenster
																											in
																											der
																											Hauptmaske
																											von
																											TraceCalc
																											Pro
																											anzeigen,
																											während
																											Sie
																											auf
																											mehrere
																											Elemente
																											in
																											der
																											Liste
																											klicken,
																											um
																											das
																											gesuchte
																											zu
																											finden.
																		
			
				
																						Since
																											the
																											Find
																											form
																											does
																											not
																											close
																											automatically,
																											you
																											may
																											view
																											the
																											Design
																											Pane
																											of
																											the
																											TraceCalc
																											Pro
																											main
																											form,
																											while
																											you
																											click
																											on
																											several
																											items
																											in
																											the
																											item
																											list,
																											to
																											find
																											the
																											item
																											you
																											are
																											looking
																											for.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1