Translation of "Prozessaufwand" in English
																						Auf
																											diese
																											Weise
																											kann
																											insbesondere
																											der
																											Werkzeug-
																											und
																											Prozessaufwand
																											verringert
																											werden.
																		
			
				
																						In
																											this
																											way,
																											in
																											particular
																											the
																											tool
																											and
																											process
																											effort
																											can
																											be
																											reduced.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Im
																											Stand
																											der
																											Technik
																											war
																											der
																											Elektrodenabstand
																											durch
																											den
																											Prozessaufwand
																											der
																											Schichtdickeneinstellung
																											limitiert.
																		
			
				
																						In
																											the
																											prior
																											art,
																											the
																											electrode
																											distance
																											was
																											limited
																											by
																											the
																											process
																											effort
																											of
																											setting
																											the
																											layer
																											thickness.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Prozessaufwand
																											für
																											diese
																											Prozessschritte
																											ist
																											zum
																											Teil
																											erheblich.
																		
			
				
																						The
																											process
																											expenditure
																											for
																											those
																											process
																											steps
																											is
																											in
																											part
																											considerable.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Das
																											Nebeneinander
																											unterschiedlicher
																											Verfahren
																											erhöht
																											den
																											Prozessaufwand
																											in
																											der
																											Auftragsbearbeitung.
																		
			
				
																						The
																											coexistence
																											of
																											various
																											methods
																											increases
																											process
																											costs
																											in
																											order
																											processing.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Dies
																											erfordert
																											jedoch
																											ein
																											sehr
																											exaktes
																											Zusammenfügen
																											und
																											Binden
																											der
																											einzelnen
																											Blätter
																											mit
																											entsprechend
																											hohem
																											Prozessaufwand.
																		
			
				
																						This
																											procedure,
																											however,
																											requires
																											very
																											precise
																											joining
																											and
																											binding
																											of
																											the
																											individual
																											sheets,
																											with
																											a
																											corresponding
																											greater
																											process
																											effort.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Auf
																											diese
																											Weise
																											können
																											LED-Bauteile
																											in
																											sehr
																											großen
																											Stückzahlen
																											mit
																											geringem
																											Anlagen-
																											und
																											Prozessaufwand
																											hergestellt
																											werden.
																		
			
				
																						In
																											this
																											manner,
																											LED
																											components
																											can
																											now
																											be
																											manufactured
																											in
																											very
																											large
																											quantities
																											with
																											modest
																											plant
																											and
																											process
																											investment.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Es
																											ist
																											nun
																											Aufgabe
																											der
																											Erfindung,
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											Herstellung
																											eines
																											Leistungs-IGBT-Bauelements
																											anzugeben,
																											welches
																											es
																											mit
																											geringem
																											zusätzlichem
																											Prozessaufwand
																											erlaubt,
																											einen
																											IGBT
																											mit
																											Leistungsbegrenzung
																											im
																											Kurzschlussfall
																											und
																											einem
																											reduzierten
																											Löcher-Bypass-Widerstand
																											erzeugen.
																		
			
				
																						Accordingly,
																											one
																											object
																											of
																											the
																											invention
																											is
																											to
																											provide
																											a
																											novel
																											method
																											for
																											the
																											production
																											of
																											a
																											power
																											IGBT
																											component
																											which
																											permits
																											the
																											production
																											of
																											an
																											IGBT
																											with
																											power
																											limiting
																											in
																											the
																											event
																											of
																											a
																											short
																											circuit
																											and
																											a
																											reduced
																											hole
																											bypass
																											resistance
																											with
																											little
																											additional
																											process
																											complexity.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Nachteil
																											dieser
																											Vorgehensweisen
																											besteht
																											in
																											einem
																											hohen
																											Prozessaufwand,
																											der
																											in
																											der
																											Vielzahl
																											der
																											Verfahrensschritte
																											begründet
																											ist.
																		
			
				
																						The
																											disadvantage
																											of
																											these
																											procedures
																											is
																											the
																											complicated
																											process
																											owing
																											to
																											the
																											large
																											number
																											of
																											process
																											steps.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											erfindungsgemäße
																											Anordnung
																											erlaubt
																											es,
																											Bipolartransistoren
																											mit
																											unterschiedlicher
																											Kollektor-Emitter-Durchbruchsspannung
																											mit
																											geringerem
																											Prozessaufwand
																											als
																											im
																											Vergleich
																											zu
																											bekannten
																											Lösungen
																											und
																											ohne
																											Verschlechterung
																											der
																											Hochfrequenzeigenschaften
																											der
																											Transistorvarianten
																											zu
																											fertigen.
																		
			
				
																						The
																											arrangement
																											according
																											to
																											the
																											invention
																											makes
																											it
																											possible
																											to
																											produce
																											bipolar
																											transistors
																											with
																											a
																											differing
																											collector-emitter
																											breakdown
																											voltage
																											with
																											a
																											lower
																											level
																											of
																											process
																											expenditure
																											than
																											in
																											comparison
																											with
																											known
																											solutions
																											and
																											without
																											an
																											adverse
																											effect
																											on
																											the
																											high-frequency
																											properties
																											of
																											the
																											transistor
																											variants.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Diese
																											Prozessabfolge
																											ist
																											dahingehend
																											optimiert,
																											dass
																											bei
																											gegebenem
																											Prozessaufwand
																											die
																											Ausbeute
																											an
																											den
																											teueren
																											und
																											gerade
																											zur
																											Leuchtstoffherstellung
																											benötigten
																											Seltenen
																											Erden
																											maximal
																											wird.
																		
			
				
																						This
																											process
																											sequence
																											is
																											optimized
																											so
																											that,
																											for
																											a
																											given
																											process
																											outlay,
																											the
																											yield
																											of
																											expensive
																											rare
																											earths
																											specifically
																											required
																											for
																											fluorescent
																											material
																											production
																											is
																											maximal.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Durch
																											diesen
																											stark
																											reduzierten
																											Prozessaufwand
																											ist
																											das
																											beschriebene
																											Verfahren
																											sehr
																											viel
																											wirtschaftlicher
																											als
																											bekannte
																											Reparaturverfahren
																											von
																											keramischen
																											Faserverbundwerkstoffen.
																		
			
				
																						Owing
																											to
																											this
																											extremely
																											reduced
																											process
																											effort,
																											the
																											described
																											method
																											is
																											much
																											more
																											cost-effective
																											than
																											well-known
																											repair
																											methods
																											of
																											ceramic
																											fibrous
																											composite
																											materials.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Zusatz
																											weiterer
																											Polymere
																											erhöht
																											jedoch
																											den
																											Prozessaufwand
																											erheblich,
																											da
																											in
																											Abhängigkeit
																											vom
																											Übertrag
																											("Drag
																											Over")
																											der
																											polymeren
																											Bestandteile
																											aus
																											der
																											Vorbehandlungslösung
																											in
																											das
																											Tauchlackbad
																											die
																											Stabilität
																											des
																											Tauchlackbades
																											oder
																											die
																											Güte
																											der
																											Lackbeschichtung
																											selbst
																											negativ
																											beeinflusst
																											werden
																											kann.
																		
			
				
																						However,
																											the
																											addition
																											of
																											other
																											polymers
																											increases
																											process
																											costs
																											considerably
																											since,
																											as
																											a
																											function
																											of
																											the
																											“drag
																											over”
																											of
																											the
																											polymeric
																											components
																											from
																											the
																											pretreatment
																											solution
																											into
																											the
																											dip
																											coating
																											bath,
																											the
																											stability
																											of
																											the
																											dip
																											coating
																											bath
																											or
																											the
																											quality
																											of
																											the
																											paint
																											coating
																											itself
																											can
																											be
																											negatively
																											affected.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Vorteil
																											einer
																											solchen
																											Ausführung
																											ist
																											die
																											durch
																											sie
																											ermöglichte,
																											kompakte
																											Bauweise,
																											durch
																											welche
																											Kosten,
																											Prozessaufwand
																											und
																											Platz
																											eingespart
																											werden.
																		
			
				
																						The
																											advantage
																											of
																											such
																											a
																											design
																											is
																											the
																											compact
																											structure
																											which
																											it
																											enables,
																											which
																											results
																											in
																											savings
																											in
																											costs,
																											processing
																											time
																											and
																											space.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											zusätzliche
																											Biegebalken
																											B
																											verringert
																											allerdings
																											die
																											mechanische
																											Sensitivität
																											und/oder
																											erhöht
																											den
																											Prozessaufwand
																											hinsichtlich
																											der
																											benötigten
																											Gräben,
																											wenn
																											ansonsten
																											von
																											gleichen
																											Anforderungen
																											ausgegangen
																											wird.
																		
			
				
																						The
																											additional
																											bending
																											beam
																											B,
																											however,
																											reduces
																											the
																											mechanical
																											sensitivity
																											and/or
																											increases
																											the
																											process
																											outlay
																											with
																											respect
																											to
																											the
																											required
																											trenches,
																											when
																											otherwise
																											assuming
																											the
																											same
																											requirements.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Insbesondere
																											wird
																											zwischen
																											den
																											Balken
																											PR1,
																											B,
																											PR2
																											eine
																											möglichst
																											schmale
																											Grabenisolation
																											(STI)
																											benötigt,
																											die
																											einen
																											erhöhten
																											Prozessaufwand
																											bedeutet.
																		
			
				
																						In
																											particular,
																											trench
																											isolation
																											(STI)
																											which
																											is
																											as
																											narrow
																											as
																											possible
																											is
																											required
																											between
																											the
																											beams
																											PR
																											1,
																											B,
																											PR
																											2,
																											which
																											entails
																											increased
																											process
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Nachteil
																											dieser
																											Vorgehensweise
																											liegt
																											jedoch
																											in
																											dem
																											geringen
																											erreichbaren
																											Automatisierungsgrad
																											und
																											dem
																											insgesamt
																											hohen
																											Prozessaufwand,
																											da
																											die
																											Aushärtung
																											im
																											Montagezustand
																											zum
																											Beispiel
																											innerhalb
																											eines
																											schwierig
																											am
																											Einbauort
																											anzubringenden
																											und
																											abzudichtenden
																											Vakuumsacks
																											erfolgen
																											muss.
																		
			
				
																						The
																											drawback
																											with
																											this
																											procedure
																											is
																											however
																											the
																											low
																											degree
																											of
																											automation
																											which
																											can
																											be
																											achieved
																											and
																											thus
																											of
																											the
																											overall
																											high
																											processing
																											expense
																											since
																											hardening
																											in
																											the
																											assembly
																											position
																											has
																											to
																											take
																											place
																											for
																											example
																											inside
																											a
																											vacuum
																											sack
																											which
																											is
																											difficult
																											to
																											provide
																											and
																											seal
																											at
																											the
																											installation
																											site.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Dadurch
																											lassen
																											sich
																											die
																											erfindungsgemäßen
																											Mikrofonbauelemente
																											in
																											einem
																											Standard-Sägeprozess
																											vereinzeln,
																											wobei
																											der
																											durch
																											das
																											Aufbringen
																											und
																											Entfernen
																											einer
																											zweiten
																											Folie
																											bedingte
																											zusätzliche
																											Prozessaufwand
																											vernachlässigbar
																											ist.
																		
			
				
																						As
																											a
																											result,
																											the
																											microphone
																											elements
																											according
																											to
																											the
																											present
																											invention
																											are
																											able
																											to
																											be
																											diced
																											up
																											in
																											a
																											standard
																											sawing
																											process;
																											the
																											additional
																											process
																											work
																											caused
																											by
																											the
																											application
																											and
																											removal
																											of
																											a
																											second
																											foil
																											is
																											negligible.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Jedoch
																											werden
																											die
																											dabei
																											erforderlichen,
																											aufwändigen
																											Fertigungsprozesse
																											nur
																											von
																											sehr
																											wenigen
																											Herstellern
																											beherrscht
																											und
																											die
																											damit
																											erzielbaren
																											Vorteile
																											rechtfertigen
																											oft
																											nicht
																											den
																											höheren
																											Prozessaufwand
																											bei
																											der
																											Fertigung.
																		
			
				
																						However,
																											the
																											complicated
																											manufacturing
																											processes
																											required
																											in
																											the
																											process
																											are
																											only
																											mastered
																											by
																											very
																											few
																											producers
																											and
																											the
																											advantages
																											obtainable
																											thereby
																											often
																											do
																											not
																											justify
																											the
																											increased
																											process
																											complexity
																											during
																											the
																											production.
																											SUMMARY
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Darüber
																											hinaus
																											wurde
																											ein
																											erfindungsgemäßes
																											Verfahren
																											vorgestellt,
																											das
																											die
																											Herstellung
																											einen
																											Hochfrequenz-Bipolartransistors
																											mit
																											den
																											oben
																											genannten
																											Eigenschaften,
																											ohne
																											zusätzlichen
																											Prozessaufwand
																											ermöglicht.
																		
			
				
																						Moreover,
																											a
																											method
																											has
																											been
																											presented
																											which
																											makes
																											it
																											possible
																											to
																											produce
																											a
																											high-frequency
																											bipolar
																											transistor
																											having
																											the
																											properties
																											mentioned
																											above,
																											without
																											additional
																											process
																											complexity.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Weiterhin
																											ist
																											es
																											Aufgabe,
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											Herstellung
																											solch
																											eines
																											Bipolartransistors,
																											ohne
																											zusätzlichen
																											Prozessaufwand
																											zu
																											erreichen.
																		
			
				
																						Furthermore,
																											it
																											is
																											an
																											object
																											to
																											achieve
																											a
																											method
																											for
																											the
																											production
																											of
																											such
																											a
																											bipolar
																											transistor
																											without
																											additional
																											process
																											complexity.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Allen
																											dort
																											beschriebenen
																											Stacked-Crystal-Filtern
																											ist
																											jedoch
																											gemeinsam,
																											dass
																											ihre
																											Herstellung
																											aufgrund
																											ihres
																											komplexen
																											Aufbaus
																											und
																											der
																											damit
																											verbundenen
																											hohen
																											Anzahl
																											abzuscheidender
																											und
																											zu
																											strukturierender
																											Schichten
																											einen
																											hohen
																											Prozessaufwand
																											erfordern,
																											der
																											die
																											Herstellungskosten
																											der
																											Filter
																											erhöht.
																		
			
				
																						What
																											is
																											common
																											to
																											all
																											the
																											stacked
																											crystal
																											filters
																											described
																											therein,
																											however,
																											is
																											that
																											their
																											production,
																											on
																											account
																											of
																											their
																											complex
																											construction
																											and
																											the
																											associated
																											high
																											number
																											of
																											layers
																											to
																											be
																											deposited
																											and
																											to
																											be
																											patterned,
																											requires
																											a
																											high
																											process
																											outlay
																											which
																											increases
																											the
																											production
																											costs
																											of
																											the
																											filters.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Insbesondere
																											ist
																											es
																											die
																											Aufgabe
																											der
																											vorliegenden
																											Erfindung,
																											piezoelektrische
																											Bauelemente
																											bereitzustellen,
																											die
																											mit
																											einem
																											relativ
																											geringen
																											Prozessaufwand
																											hergestellt
																											werden
																											können.
																		
			
				
																						In
																											particular,
																											the
																											object
																											of
																											the
																											present
																											invention
																											is
																											to
																											provide
																											piezoelectric
																											components
																											which
																											can
																											be
																											produced
																											with
																											a
																											relatively
																											low
																											process
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Hierdurch
																											kann
																											ohne
																											zusätzlichen
																											Prozessaufwand
																											ein
																											Hochfrequenz-Bipolartransistor
																											erzeugt
																											werden,
																											der
																											sowohl
																											einen
																											geringen
																											Platzbedarf
																											als
																											auch
																											einen
																											niedrigen
																											Kollektorwiderstand
																											und
																											damit
																											eine
																											hohe
																											Transitfrequenz
																											kombiniert.
																		
			
				
																						This
																											makes
																											it
																											possible,
																											without
																											additional
																											process
																											complexity,
																											to
																											produce
																											a
																											high-frequency
																											bipolar
																											transistor
																											which
																											combines
																											both
																											a
																											small
																											space
																											requirement
																											and
																											a
																											low
																											collector
																											resistance
																											and
																											hence
																											a
																											high
																											transition
																											frequency.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Für
																											die
																											zusätzliche
																											Passivierungsschicht
																											über
																											der
																											Gitterstruktur
																											kann
																											der
																											gleiche
																											Prozess
																											verwendet
																											werden
																											wie
																											für
																											die
																											Passivierungsschicht
																											unter
																											der
																											Elektrode,
																											so
																											dass
																											sich
																											insgesamt
																											der
																											Prozessaufwand
																											nur
																											wenig
																											erhöht.
																		
			
				
																						The
																											same
																											process
																											may
																											be
																											used
																											for
																											the
																											additional
																											passivation
																											layer
																											above
																											the
																											grid
																											structure
																											as
																											for
																											the
																											passivation
																											layer
																											below
																											the
																											electrode,
																											so
																											the
																											process
																											expenditure
																											increases
																											only
																											slightly
																											overall.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Damit
																											soll
																											das
																											Ziel
																											verfolgt
																											werden,
																											den
																											Prozessaufwand
																											und
																											somit
																											die
																											Komplexität
																											und
																											den
																											Kostenaufwand
																											der
																											vorgeschlagenen
																											komplementären
																											BiCMOS-Technologie
																											gering
																											zu
																											halten.
																		
			
				
																						That
																											is
																											intended
																											to
																											pursue
																											the
																											aim
																											of
																											keeping
																											down
																											the
																											level
																											of
																											process
																											complication
																											and
																											expenditure
																											and
																											thus
																											the
																											complexity
																											and
																											cost
																											of
																											the
																											proposed
																											complementary
																											BiCMOS
																											technology.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Steigende
																											Fertigungskosten
																											aufgrund
																											von
																											Anforderungen
																											an
																											die
																											Einhaltung
																											gesetzlicher
																											Vorschriften,
																											übermäßigem
																											Prozessaufwand
																											oder
																											ineffizientem
																											Einsatz
																											von
																											Ressourcen
																											schmälern
																											Ihren
																											Gewinn.
																		
			
				
																						Whether
																											it
																											is
																											compliance
																											regulations,
																											excessive
																											work
																											in
																											process,
																											or
																											inefficient
																											use
																											of
																											resources,
																											increasing
																											production
																											costs
																											cut
																											into
																											your
																											profits.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Beispielsweise
																											stehen
																											im
																											Bereich
																											Finanzen
																											und
																											Einkauf
																											die
																											Themen
																											Datentransparenz
																											und
																											Kosten
																											stark
																											im
																											Vordergrund,
																											wohingegen
																											es
																											unter
																											der
																											Federführung
																											des
																											Personalbereichs
																											eher
																											der
																											Reisende
																											und
																											der
																											Prozessaufwand
																											sind.
																		
			
				
																						For
																											example,
																											the
																											issues
																											of
																											data
																											transparency
																											and
																											costs
																											are
																											heavily
																											at
																											the
																											forefront
																											of
																											considerations
																											in
																											the
																											areas
																											of
																											finance
																											and
																											procurement,
																											whereas
																											the
																											traveller
																											and
																											the
																											process
																											expenditure
																											tend
																											to
																											be
																											more
																											important
																											if
																											the
																											personnel
																											department
																											is
																											lead
																											manager.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Es
																											ist
																											ein
																											geringer
																											Prozeßaufwand
																											erforderlich,
																											um
																											die
																											Solarzellen
																											herzustellen.
																		
			
				
																						Low
																											process
																											expenditure
																											is
																											necessary
																											to
																											make
																											the
																											solar
																											cells.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Das
																											bedeutet
																											einen
																											reduzierten
																											Prozeßaufwand.
																		
			
				
																						That
																											means
																											a
																											reduced
																											process
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Das
																											genannte
																											Substrat
																											erfordert
																											einen
																											zusätzlichen
																											Prozeßaufwand
																											und
																											bedingt
																											aufgrund
																											der
																											beschriebenen
																											hellen,
																											weißen
																											oder
																											metallischen
																											Oberfläche
																											-
																											insbesondere
																											an
																											Kanten
																											-
																											Deckkraftprobleme
																											bei
																											der
																											nachfolgenden
																											Beschichtung
																											in
																											dunklen
																											Farben.
																		
			
				
																						The
																											aforementioned
																											substrate
																											requires
																											an
																											additional
																											process
																											expenditure
																											and
																											resources
																											and,
																											on
																											account
																											of
																											the
																											aforedescribed
																											bright,
																											white
																											or
																											metallic
																											surface
																											causes
																											hiding
																											power
																											problems
																											-
																											especially
																											at
																											the
																											edges
																											-
																											during
																											the
																											subsequent
																											coating
																											in
																											dark
																											colours.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											das
																											Problem
																											zugrunde,
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											Herstellung
																											einer
																											CMOS-Schaltungsanordnung
																											anzugeben,
																											bei
																											dem
																											der
																											Prozeßaufwand
																											reduziert
																											wird.
																		
			
				
																						The
																											present
																											invention,
																											therefore,
																											is
																											based
																											on
																											the
																											problem
																											of
																											specifying
																											a
																											method
																											for
																											producing
																											a
																											CMOS
																											circuit
																											in
																											which
																											the
																											process
																											outlay
																											is
																											reduced.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											das
																											Problem
																											zugrunde,
																											eine
																											integrierte
																											CMOS-Schaltungsanordnung
																											anzugeben,
																											die
																											mit
																											reduziertem
																											Platzbedarf
																											und
																											reduziertem
																											Prozeßaufwand
																											herstellbar
																											ist.
																		
			
				
																						The
																											present
																											invention
																											is
																											based
																											on
																											the
																											problem
																											of
																											providing
																											an
																											integrated
																											CMOS
																											circuit
																											which
																											can
																											be
																											produced
																											with
																											a
																											reduced
																											space
																											requirement
																											and
																											a
																											reduced
																											process
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											DRAM-Zellenanordnung
																											kann
																											mit
																											einem
																											im
																											Vergleich
																											zum
																											Stand
																											der
																											Technik
																											kleinen
																											Prozeßaufwand
																											bei
																											zugleich
																											hoher
																											Pakkungsdichte
																											hergestellt
																											werden.
																		
			
				
																						The
																											DRAM
																											cell
																											arrangement
																											can
																											be
																											produced
																											with
																											a
																											small
																											processing
																											expense
																											compared
																											to
																											the
																											prior
																											art,
																											while
																											simultaneously
																											achieving
																											a
																											higher
																											packing
																											density.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Dadurch
																											können
																											Verbindungen
																											zwischen
																											Source/Drain-Gebieten
																											der
																											Transistoren
																											innerhalb
																											der
																											Halbleiterstruktur
																											verlaufen,
																											was
																											sowohl
																											den
																											Prozeßaufwand
																											verkleinert
																											als
																											auch
																											die
																											Packungsdichte
																											erhöht.
																		
			
				
																						This
																											makes
																											it
																											possible
																											for
																											connections
																											between
																											source/drain
																											regions
																											of
																											the
																											transistors
																											to
																											run
																											within
																											the
																											semiconductor
																											structure,
																											which
																											both
																											reduces
																											the
																											process
																											complexity
																											and
																											increases
																											the
																											packing
																											density.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Dies
																											stellt
																											eine
																											Vorstrukturierung
																											dar,
																											die
																											den
																											Prozeßaufwand
																											bezüglich
																											der
																											Strukturierung
																											der
																											Schichtenfolge
																											sowie
																											der
																											Erzeugung
																											leitender
																											Strukturen,
																											wie
																											z.B.
																											Bitleitungen,
																											verringert.
																		
			
				
																						This
																											constitutes
																											pre-structuring,
																											which
																											reduces
																											the
																											process
																											complexity
																											with
																											regard
																											to
																											the
																											structuring
																											of
																											the
																											layer
																											sequence
																											and
																											the
																											production
																											of
																											conductive
																											structures,
																											such
																											as
																											bit
																											lines,
																											for
																											example.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											daher
																											die
																											Aufgabe
																											zugrunde,
																											ein
																											neuartiges
																											Konzept
																											für
																											ein
																											Mikrosystem
																											mit
																											einem
																											mikromechanischen
																											Bauteil
																											anzugeben,
																											wobei
																											das
																											Bauteil
																											als
																											Motor,
																											Aktor
																											oder
																											Kraftsensor
																											eingesetzt
																											werden
																											kann,
																											sowie
																											ein
																											Herstellverfahren
																											für
																											ein
																											Mikrosystem
																											anzugeben,
																											bei
																											welchem
																											ausgehend
																											von
																											der
																											IS-Herstellung
																											ein
																											nur
																											minimaler
																											zusätzlicher
																											Prozeßaufwand
																											für
																											die
																											Herstellung
																											des
																											mikromechanischen
																											Bauteils
																											notwendig
																											ist.
																		
			
				
																						It
																											is
																											accordingly
																											an
																											object
																											of
																											the
																											invention
																											to
																											provide
																											a
																											micromechanical
																											component
																											with
																											a
																											dielectric
																											movable
																											structure,
																											a
																											microsystem,
																											and
																											a
																											production
																											process,
																											which
																											overcome
																											the
																											hereinafore-mentioned
																											disadvantages
																											of
																											the
																											heretofore-known
																											products
																											and
																											processes
																											of
																											this
																											general
																											type,
																											which
																											can
																											be
																											used
																											as
																											a
																											proportional
																											or
																											non-proportional
																											force
																											sensor
																											and
																											in
																											which
																											only
																											minimal
																											additional
																											process
																											effort
																											and
																											expense
																											are
																											needed
																											to
																											make
																											the
																											micromechanical
																											component,
																											beginning
																											with
																											the
																											IC
																											production.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											daher
																											die
																											Aufgabe
																											zugrunde,
																											ein
																											neuartiges
																											Konzept
																											und
																											ein
																											Herstellverfahren
																											für
																											ein
																											mikromechanisches
																											Bauteil
																											anzugeben,
																											das
																											als
																											proportionaler
																											oder
																											nicht-proportionaler
																											Kraftsensor
																											eingesetzt
																											werden
																											kann,
																											sowie
																											ein
																											Mikrosystem
																											mit
																											einer
																											integrierten
																											Schaltung
																											und
																											einem
																											mikromechanischen
																											Bauteil
																											und
																											ein
																											Herstellverfahren
																											anzugeben,
																											bei
																											welchem
																											ausgehend
																											von
																											der
																											IS-Herstellung
																											ein
																											nur
																											minimaler
																											zusätzlicher
																											Prozeßaufwand
																											für
																											die
																											Herstellung
																											des
																											mikromechanischen
																											Bauteils
																											notwendig
																											ist.
																		
			
				
																						It
																											is
																											accordingly
																											an
																											object
																											of
																											the
																											invention
																											to
																											provide
																											a
																											micromechanical
																											component
																											with
																											a
																											dielectric
																											movable
																											structure,
																											a
																											microsystem,
																											and
																											a
																											production
																											process,
																											which
																											overcome
																											the
																											hereinafore-mentioned
																											disadvantages
																											of
																											the
																											heretofore-known
																											products
																											and
																											processes
																											of
																											this
																											general
																											type,
																											which
																											can
																											be
																											used
																											as
																											a
																											proportional
																											or
																											non-proportional
																											force
																											sensor
																											and
																											in
																											which
																											only
																											minimal
																											additional
																											process
																											effort
																											and
																											expense
																											are
																											needed
																											to
																											make
																											the
																											micromechanical
																											component,
																											beginning
																											with
																											the
																											IC
																											production.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Als
																											nachteilhaft
																											bei
																											den
																											obigen
																											bekannten
																											Ansätzen
																											hat
																											sich
																											die
																											Tatsache
																											herausgestellt,
																											daß
																											sie
																											einen
																											hohen
																											Prozeßaufwand
																											erfordern
																											und
																											die
																											Isolationsschicht
																											häufig
																											anfällig
																											gegenüber
																											Spannungen
																											und
																											Streß
																											in
																											sich
																											und
																											zum
																											Substrat
																											ist,
																											wobei
																											letzteres
																											insbesondere
																											auf
																											die
																											LOCOS-Technologie
																											zutrifft.
																		
			
				
																						A
																											disadvantageous
																											fact
																											that
																											has
																											come
																											to
																											light
																											in
																											the
																											case
																											of
																											the
																											prior
																											art
																											approaches
																											noted
																											above
																											is
																											that
																											they
																											require
																											a
																											high
																											process
																											outlay
																											and
																											the
																											insulation
																											layer
																											is
																											frequently
																											susceptible
																											to
																											shear
																											tension
																											and
																											stress
																											within
																											itself
																											and
																											with
																											respect
																											to
																											the
																											substrate;
																											the
																											latter
																											applies
																											in
																											particular
																											to
																											LOCOS
																											technology.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											das
																											Problem
																											zugrunde,
																											eine
																											Schaltungsanordnung
																											mit
																											mindestens
																											einem
																											Kondensator
																											anzugeben,
																											wobei
																											der
																											Kondensator
																											mit
																											hoher
																											Packungsdichte
																											und
																											mit
																											im
																											Vergleich
																											zum
																											Stand
																											der
																											Technik
																											verringertem
																											Prozeßaufwand
																											herstellbar
																											ist.
																		
			
				
																						SUMMARY
																											OF
																											THE
																											INVENTION
																											The
																											invention
																											provides
																											a
																											circuit
																											arrangement
																											with
																											at
																											least
																											one
																											capacitor
																											that
																											has
																											a
																											higher
																											packing
																											density
																											and
																											a
																											reduced
																											procedural
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											das
																											Problem
																											zugrunde,
																											eine
																											DRAM-Zellenanordnung
																											anzugeben,
																											die
																											bei
																											hoher
																											Packungsdichte
																											mit
																											im
																											Vergleich
																											zum
																											Stand
																											der
																											Technik
																											kleinerem
																											Prozeßaufwand
																											herstellbar
																											ist.
																		
			
				
																						The
																											invention
																											is
																											based
																											on
																											the
																											problem
																											of
																											proposing
																											a
																											DRAM
																											cell
																											arrangement
																											which,
																											given
																											a
																											high
																											packing
																											density,
																											can
																											be
																											produced
																											with
																											a
																											smaller
																											processing
																											outlays
																											than
																											previously
																											available.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Da
																											sowohl
																											die
																											Bitleitung
																											als
																											auch
																											der
																											Speicherkondensator
																											an
																											einer
																											Oberfläche
																											des
																											Halbleitersubstrats
																											erzeugt
																											werden,
																											wird
																											die
																											Erzeugung
																											von
																											im
																											Halbleitersubstrat
																											vergrabenen
																											Strukturen
																											vermieden,
																											was
																											ebenfalls
																											den
																											Prozeßaufwand
																											verkleinert.
																		
			
				
																						Since
																											not
																											only
																											the
																											bit
																											line,
																											but
																											also
																											the
																											storage
																											capacitor
																											is
																											created
																											at
																											a
																											surface
																											of
																											the
																											semiconductor
																											substrate,
																											the
																											creation
																											of
																											structures
																											that
																											are
																											buried
																											in
																											the
																											semiconductor
																											substrate
																											is
																											avoided,
																											which
																											also
																											reduces
																											the
																											processing
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Daher
																											ist
																											es
																											Aufgabe
																											der
																											vorliegenden
																											Erfindung,
																											ein
																											verbessertes
																											Verfahren
																											zur
																											Herstellung
																											einer
																											Halbleiter-Isolationsschicht
																											und
																											eines
																											diese
																											Halbleiterisolationsschicht
																											enthaltenden
																											Halbleiterbauelements
																											anzugeben,
																											durch
																											das
																											mit
																											verhältnismäßig
																											geringem
																											Prozeßaufwand
																											eine
																											streßfreie
																											stabile
																											Isolation
																											geschaffen
																											werden
																											kann.
																		
			
				
																						It
																											is
																											accordingly
																											an
																											object
																											of
																											the
																											invention
																											to
																											provide
																											a
																											method
																											for
																											fabricating
																											a
																											semiconductor
																											insulation
																											layer,
																											which
																											overcomes
																											the
																											above-mentioned
																											disadvantages
																											of
																											the
																											heretofore-known
																											devices
																											and
																											methods
																											of
																											this
																											general
																											type
																											and
																											which
																											makes
																											it
																											possible
																											to
																											create
																											stress-free,
																											stable
																											insulation
																											with
																											a
																											comparatively
																											low
																											process
																											outlay.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											Integration
																											des
																											Widerstandselements
																											zieht
																											dabei
																											nur
																											einen
																											minimalen
																											zusätzlichen
																											Prozeßaufwand
																											nach
																											sich,
																											wobei
																											technologisch
																											gut
																											beherrschte
																											Prozesse
																											zur
																											Anwendung
																											kommen.
																		
			
				
																						At
																											the
																											same
																											time,
																											the
																											integration
																											of
																											the
																											resistance
																											element
																											entails
																											only
																											a
																											minimal
																											additional
																											process
																											complexity
																											and
																											processes
																											that
																											are
																											technologically
																											well
																											controlled
																											are
																											used.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Erfindung
																											liegt
																											die
																											Aufgabe
																											zugrunde,
																											einen
																											programmierbaren
																											Halbleiterspeicher
																											zu
																											schaffen,
																											der
																											in
																											einem
																											MOS-Prozeß
																											mit
																											geringem
																											Prozeßaufwand
																											herstellbar
																											ist
																											und
																											nur
																											wenig
																											Platz
																											beansprucht.
																		
			
				
																						It
																											is,
																											therefore,
																											the
																											object
																											of
																											the
																											present
																											invention
																											to
																											provide
																											a
																											programmable
																											semiconductor
																											memory
																											which
																											can
																											be
																											fabricated
																											with
																											an
																											MOS
																											process
																											of
																											low
																											complexity
																											and
																											takes
																											up
																											less
																											space
																											than
																											prior
																											art
																											programmable
																											semiconductor
																											memories.
																											SUMMARY
																											OF
																											THE
																											INVENTION
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											gefundene
																											Lösung
																											zeichnet
																											sich
																											insbesondere
																											dadurch
																											aus,
																											einen
																											Beschleunigungssensor
																											gemäß
																											dem
																											Oberbegriff
																											des
																											Patentanspruchs,
																											der
																											mit
																											einem
																											Minimum
																											an
																											Prozeßaufwand
																											hergestellt
																											ist,
																											ohne
																											weitere
																											bauliche
																											Maßnahmen
																											abzudichten.
																		
			
				
																						The
																											solution
																											of
																											the
																											present
																											invention
																											is
																											distinguished
																											especially
																											by
																											sealing
																											an
																											acceleration
																											sensor,
																											as
																											described
																											above,
																											which
																											is
																											produced
																											with
																											a
																											minimum
																											of
																											processing
																											effort
																											without
																											additional
																											constructional
																											measures.
															 
				
		 EuroPat v2