Translation of "Veraschen" in English
																						Der
																											beim
																											Veraschen
																											auftretende
																											Gewichtsverlust
																											darf
																											4
																											mg
																											nicht
																											überschreiten.
																		
			
				
																						Loss
																											of
																											weight
																											resulting
																											from
																											ashing
																											must
																											not
																											exceed
																											4
																											mg.
															 
				
		 DGT v2019
			
																						Es
																											wird
																											unmittelbar
																											vor
																											dem
																											Veraschen
																											mit
																											1
																											bis
																											2
																											ml
																											Äthanol
																											befeuchtet.
																		
			
				
																						Immediately
																											before
																											incineration
																											damp
																											the
																											test
																											sample
																											with
																											1
																											to
																											2
																											ml
																											of
																											ethyl
																											alcohol.
															 
				
		 DGT v2019
			
																						Der
																											Fotolack
																											wird
																											anschließend
																											in
																											einem
																											Sauerstoff-Plasma
																											durch
																											Veraschen
																											entfernt.
																		
			
				
																						The
																											photoresist
																											is
																											subsequently
																											removed
																											by
																											ashing
																											in
																											an
																											oxygen
																											plasma.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Üblicherweise
																											wird
																											das
																											Veraschen
																											unter
																											Luftatmosphäre
																											durchgeführt.
																		
			
				
																						It
																											is
																											customary
																											to
																											carry
																											out
																											the
																											ashing
																											in
																											an
																											air
																											atmosphere.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Beschreibung:
																											Diese
																											Modelle
																											sind
																											insbesondere
																											zum
																											Veraschen
																											im
																											Labor
																											konzipiert.
																		
			
				
																						Description:
																											These
																											models
																											are
																											especially
																											designed
																											for
																											ashing
																											in
																											the
																											laboratory.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Insbesondere
																											bleiben
																											die
																											Metallklammern
																											beim
																											Veraschen
																											der
																											Filterelemente
																											übrig.
																		
			
				
																						In
																											particular,
																											the
																											metal
																											clips
																											remain
																											on
																											incineration
																											of
																											the
																											filter
																											elements.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Nach
																											späterem
																											veraschen
																											dieser
																											Blätter
																											entsteht
																											eine
																											salzhaltige
																											Asche.
																		
			
				
																						Later
																											they
																											burn
																											the
																											leaves
																											and
																											use
																											the
																											ash
																											as
																											salt.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Der
																											Bariumferritgehalt
																											der
																											Plastoferritstäbchen
																											wurde
																											durch
																											Veraschen
																											bei
																											400°C
																											bestimmt
																											und
																											beträgt
																											75
																											Gew.-%.
																		
			
				
																						The
																											barium
																											ferrite
																											content
																											of
																											the
																											plastoferrite
																											rods
																											was
																											determined
																											by
																											ashing
																											at
																											400°
																											C.,
																											and
																											found
																											to
																											be
																											75%
																											by
																											weight.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Das
																											Ätzen
																											oder
																											Veraschen
																											von
																											organischem
																											Material,
																											wie
																											Photoresist
																											wird
																											vorzugsweise
																											mit
																											atomarem
																											Sauerstoff
																											durchgeführt.
																		
			
				
																						The
																											etching
																											or
																											ashing
																											of
																											organic
																											material,
																											such
																											as
																											photoresist,
																											also
																											is
																											preferably
																											achieved
																											with
																											atomic
																											oxygen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Zum
																											anderen
																											kann
																											die
																											Rückgewinnung
																											des
																											adsorbierten
																											Metalls
																											durch
																											Veraschen
																											der
																											beladenen
																											Aktivkohle
																											erfolgen.
																		
			
				
																						Secondly,
																											recovery
																											of
																											the
																											adsorbed
																											metal
																											can
																											be
																											effected
																											by
																											ashing
																											of
																											the
																											loaded
																											activated
																											carbon.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											analytische
																											Gehalt
																											von
																											SiO
																											2
																											der
																											Aktivkohlen
																											wird
																											nach
																											Veraschen
																											des
																											Materials
																											in
																											üblicher
																											Weise
																											bestimmt.
																		
			
				
																						The
																											analytical
																											SiO2
																											content
																											of
																											the
																											activated
																											carbon
																											is
																											determined,
																											in
																											the
																											usual
																											manner,
																											after
																											burning
																											the
																											material.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Dann
																											kann
																											das
																											Bindemittel,
																											z.
																											B.
																											durch
																											Verdampfen
																											oder
																											Veraschen,
																											entfernt
																											und
																											das
																											Substrat
																											durch
																											Erhitzen
																											unter
																											Aufschmelzen
																											des
																											Glases
																											mit
																											fest
																											anhaftenden,
																											durchgehenden
																											kompakten
																											Schutzschichten
																											aus
																											mineralischem
																											Glas
																											versehen
																											werden.
																		
			
				
																						Then
																											the
																											fixing
																											agent
																											can
																											be
																											removed,
																											for
																											instance
																											by
																											evaporation
																											or
																											incineration,
																											and
																											the
																											substrate,
																											by
																											heating
																											and
																											melting
																											the
																											glass
																											can
																											be
																											provided
																											with
																											a
																											tightly
																											adhering,
																											continuous,
																											compact
																											protective
																											layer
																											of
																											mineral
																											glass.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											analytische
																											Gehalt
																											von
																											Si0
																											2
																											der
																											Aktivkohlen
																											wird
																											nach
																											Veraschen
																											des
																											Materials
																											in
																											üblicher
																											Weise
																											bestimmt.
																		
			
				
																						The
																											analytical
																											SiO2
																											content
																											of
																											the
																											activated
																											carbon
																											is
																											determined,
																											in
																											the
																											usual
																											manner,
																											after
																											burning
																											the
																											material.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Es
																											ist
																											bekannt,
																											schwach-
																											bis
																											mittelradioaktive
																											Abfallstoffe,
																											die
																											brennbare
																											Anteile
																											enthalten,
																											in
																											Verbrennungsöfen
																											zu
																											veraschen
																											und
																											radioaktive
																											Flüssigkeiten
																											durch
																											Eindampfen
																											zu
																											konzentrieren
																											und
																											den
																											erhaltenen
																											Schlamm
																											zu
																											Trockenrückstand
																											zu
																											verarbeiten.
																		
			
				
																						It
																											is
																											known
																											that
																											weakly
																											radioactive
																											to
																											medium
																											radioactive
																											waste
																											materials
																											which
																											contain
																											burnable
																											components
																											can
																											be
																											incinerated
																											in
																											combustion
																											furnaces,
																											and
																											radioactive
																											liquids
																											concentrated
																											through
																											evaporation
																											and
																											the
																											obtained
																											sludge
																											processed
																											into
																											a
																											dry
																											residue.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Bei
																											konstant
																											Halten
																											der
																											Spannung,
																											des
																											Stromes
																											und
																											der
																											Intensität
																											des
																											Waschvorgangs
																											wird
																											für
																											verschiedene
																											Konzentrationen
																											der
																											Copolymerlösungen
																											eine
																											lineare
																											Beziehung
																											zwischen
																											dem
																											Copolymerauftrag
																											(Bestimmung
																											durch
																											Veraschen)
																											und
																											der
																											Verwelzeit
																											der
																											C-Faser
																											in
																											der
																											Elektrolytzelle
																											gefunden.
																		
			
				
																						By
																											keeping
																											constant
																											the
																											voltage,
																											the
																											current
																											and
																											the
																											intensity
																											of
																											the
																											washing
																											operation,
																											there
																											is
																											found
																											for
																											various
																											concentrations
																											of
																											the
																											copolymer
																											solutions
																											a
																											linear
																											relationship
																											between
																											the
																											amount
																											of
																											copolymer
																											deposited
																											(determination
																											by
																											incineration)
																											and
																											the
																											length
																											of
																											time
																											that
																											the
																											C
																											fibres
																											are
																											in
																											the
																											electrolytic
																											cell.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Der
																											Aschengehalt
																											(Veraschen
																											bei
																											800°
																											C
																											während
																											2
																											Stunden)
																											des
																											gebleichten
																											Gewebes
																											beträgt
																											nur
																											0,30%.
																		
			
				
																						The
																											ash
																											content
																											(incineration
																											at
																											8000°
																											C.
																											for
																											2
																											hours)
																											of
																											the
																											bleached
																											fabric
																											is
																											only
																											0.30%.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Bei
																											konstant
																											Halten
																											der
																											Spannung,
																											des
																											Stromes
																											und
																											der
																											Intensität
																											des
																											Waschvorgangs
																											wird
																											für
																											verschiedene
																											Konzentrationen
																											der
																											Copolymerlösungen
																											eine
																											lineare
																											Beziehung
																											zwischen
																											dem
																											Copolymerauftrag
																											(Bestimmung
																											durch
																											Veraschen)
																											und
																											der
																											Verweilzeit
																											der
																											C-Faser
																											in
																											der
																											Elektrolytzelle
																											gefunden.
																		
			
				
																						By
																											keeping
																											constant
																											the
																											voltage,
																											the
																											current
																											and
																											the
																											intensity
																											of
																											the
																											washing
																											operation,
																											there
																											is
																											found
																											for
																											various
																											concentrations
																											of
																											the
																											copolymer
																											solutions
																											a
																											linear
																											relationship
																											between
																											the
																											amount
																											of
																											copolymer
																											deposited
																											(determination
																											by
																											incineration)
																											and
																											the
																											length
																											of
																											time
																											that
																											the
																											C
																											fibres
																											are
																											in
																											the
																											electrolytic
																											cell.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											Erfindung
																											hat
																											den
																											Vorteil,
																											daß
																											eine
																											Maske,
																											die
																											ein
																											anorganisches
																											Material
																											enthält,
																											im
																											Vergleich
																											zu
																											Photolacken
																											widerstandsfähiger
																											ist,
																											so
																											daß
																											ein
																											chemisches
																											Veraschen"
																											der
																											Maske
																											verhindert
																											wird.
																		
			
				
																						The
																											invention
																											has
																											the
																											advantage
																											that
																											a
																											mask
																											containing
																											an
																											inorganic
																											material
																											has
																											a
																											greater
																											resistance
																											than
																											photoresists,
																											so
																											that
																											chemical
																											“incineration”
																											or
																											ashing
																											of
																											the
																											mask
																											is
																											prevented.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Anschließend
																											wird
																											die
																											Lackmaske
																											7
																											durch
																											einen
																											naßchemischen
																											Prozeß
																											oder
																											durch
																											Veraschen
																											entfernt,
																											wobei
																											die
																											Polyimidschicht
																											3
																											durch
																											die
																											dünnen
																											Bereiche
																											10
																											der
																											SiO
																											2
																											-Schicht
																											geschützt
																											ist.
																		
			
				
																						The
																											resist
																											mask
																											7
																											is
																											subsequently
																											removed
																											by
																											a
																											wet-chemical
																											process
																											or
																											by
																											incineration,
																											the
																											polyimide
																											layer
																											3
																											being
																											protected
																											by
																											the
																											thin
																											regions
																											10
																											of
																											the
																											SiO
																											2
																											layer.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Die
																											Erfindung
																											hat
																											den
																											weiteren
																											Vorteil,
																											daß
																											die
																											Metalle,
																											Metallsilizide,
																											Metallnitride
																											oder
																											Metalloxide
																											der
																											zweiten
																											Schicht
																											im
																											Vergleich
																											zu
																											Photolacken
																											widerstandsfähiger
																											sind,
																											so
																											daß
																											ein
																											chemisches
																											"Veraschen"
																											der
																											Maske
																											verhindert
																											wird.
																		
			
				
																						The
																											invention
																											has
																											the
																											advantage
																											that
																											the
																											metals,
																											metal
																											silicides,
																											metal
																											nitrides
																											or
																											metal
																											oxides
																											of
																											the
																											second
																											layer
																											are
																											more
																											resistant
																											in
																											comparison
																											with
																											photoresists,
																											with
																											the
																											result
																											that
																											chemical
																											“burning
																											off”
																											of
																											the
																											mask
																											is
																											prevented.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Bei
																											einem
																											Verfahren
																											und
																											in
																											einer
																											Anlage
																											zum
																											Veraschen
																											von
																											Klärschlamm
																											wird
																											vorgetrockneter
																											Klärschlamm
																											in
																											einer
																											ersten
																											Behandlungsstufe
																											unter
																											Wärmezufuhr
																											bis
																											auf
																											Restfeuchtigkeit
																											getrocknet
																											und
																											anschließend
																											in
																											einer
																											zweiten
																											Behandlungsstufe
																											unter
																											weiterer
																											Wärmezufuhr
																											und
																											unter
																											Luftabschluß
																											pyrolysiert,
																											wobei
																											das
																											gewonnene
																											Pyrolysegas
																											zumindest
																											teilweise
																											zur
																											Erzeugung
																											der
																											für
																											die
																											Wärmezufuhr
																											erforderlichen
																											heißen
																											Rauchgase
																											eingesetzt
																											wird.
																		
			
				
																						In
																											a
																											procedure
																											and
																											an
																											installation
																											for
																											the
																											incinerating
																											of
																											sludge,
																											predried
																											sludge
																											is
																											dried
																											to
																											residual
																											moisture
																											by
																											the
																											addition
																											of
																											heat
																											in
																											a
																											first
																											processing
																											step
																											and
																											then
																											pyrolized
																											by
																											the
																											continued
																											addition
																											of
																											heat
																											and
																											the
																											exclusion
																											of
																											air
																											in
																											a
																											second
																											processing
																											step,
																											with
																											the
																											pyrolysis
																											gas
																											obtained
																											being
																											used
																											at
																											least
																											partially
																											to
																											generate
																											the
																											hot
																											fumes
																											required
																											for
																											heat
																											input.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Nach
																											Entfernen
																											der
																											übrigen
																											auf
																											der
																											Halbleiteroberfläche
																											aufgebrachten
																											Schichten,
																											z.
																											B.
																											Entfernen
																											der
																											Fotolackmaske
																											4
																											und
																											darauf
																											angebrachter
																											Metallschichten
																											mittels
																											Abhebetechnik,
																											Entfernen
																											der
																											zweiten
																											Titanschicht
																											13
																											und
																											der
																											dritten
																											Titanschicht
																											16,
																											z.
																											B.
																											mit
																											einer
																											stark
																											verdünnten
																											Mischung
																											von
																											Flußsäure
																											und
																											Salpetersäure,
																											Entfernen
																											der
																											Kupferschicht
																											12
																											mittels
																											Sputterätzen
																											und
																											Entfernen
																											der
																											restlichen
																											Titanschicht
																											11
																											mit
																											der
																											angeführten
																											Ti-
																											Ätze
																											bzw.
																											Entfernen
																											der
																											Lackschicht,
																											die
																											anstelle
																											der
																											Kupferschicht
																											und
																											der
																											ersten
																											Titanschicht
																											aufgebracht
																											sein
																											kann,
																											mittels
																											Veraschen,
																											bleiben
																											schließlich
																											die
																											feinen
																											angebrachten
																											Kontakte
																											21
																											auf
																											der
																											Halbleiterschicht
																											2
																											in
																											gewünschter
																											Weise
																											stehen,
																											während
																											alle
																											anderen
																											Schichten
																											entfernt
																											sind.
																		
			
				
																						After
																											removing
																											the
																											rest
																											of
																											the
																											layers
																											applied
																											to
																											the
																											semiconductor
																											surface,
																											such
																											as
																											by
																											removing
																											the
																											photoresist
																											mask
																											4
																											and
																											the
																											metal
																											layers
																											applied
																											thereon
																											by
																											means
																											of
																											a
																											stripping
																											technique,
																											the
																											removal
																											of
																											the
																											second
																											titanium
																											layer
																											13
																											and
																											the
																											third
																											titanium
																											layer
																											16,
																											such
																											as
																											by
																											means
																											of
																											a
																											highly
																											diluted
																											mixture
																											of
																											hydrofluoric
																											acid
																											and
																											nitric
																											acid,
																											and
																											the
																											removal
																											of
																											the
																											copper
																											layer
																											12
																											by
																											means
																											of
																											sputter
																											etching,
																											and
																											the
																											removal
																											of
																											the
																											remaining
																											titanium
																											layer
																											11
																											by
																											the
																											mentioned
																											Ti-etching
																											and
																											the
																											removal
																											if
																											the
																											lacquer
																											layer,
																											respectively,
																											which
																											can
																											be
																											applied
																											instead
																											of
																											the
																											copper
																											and
																											first
																											titanium
																											layers,
																											by
																											reduction
																											to
																											ashes
																											or
																											incineration,
																											what
																											is
																											finally
																											left
																											is
																											the
																											fineness
																											of
																											contacts
																											21
																											applied
																											in
																											their
																											desired
																											manner
																											to
																											the
																											semiconductor
																											layer
																											2,
																											while
																											all
																											other
																											layers
																											are
																											removed.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Vorzugsweise
																											wird
																											beim
																											Veraschen
																											eine
																											Temperatur
																											von
																											1.200°C,
																											besonders
																											bevorzugt
																											von
																											1.100°C
																											und
																											am
																											meisten
																											bevorzugt
																											von
																											1.000°C
																											nicht
																											überschritten.
																		
			
				
																						Preferably,
																											a
																											temperature
																											of
																											1,200°
																											C.,
																											particularly
																											preferably
																											of
																											1,100°
																											C.,
																											and
																											most
																											preferably
																											of
																											1,000°
																											C.,
																											is
																											not
																											exceeded
																											in
																											the
																											ashing.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Das
																											Veraschen
																											der
																											edelmetallhaltigen
																											Zusammensetzung
																											im
																											Verfahrensschritt
																											ii)
																											kann
																											gegebenenfalls
																											auch
																											zwei
																											oder
																											mehrstufig
																											erfolgen,
																											beispielsweise
																											so
																											wie
																											dies
																											in
																											der
																											WO
																											2007/036334
																											beschrieben
																											ist.
																		
			
				
																						Ashing
																											the
																											noble
																											metal-containing
																											composition
																											in
																											procedural
																											step
																											ii)
																											can
																											just
																											as
																											well
																											include
																											two
																											or
																											more
																											steps,
																											if
																											applicable,
																											such
																											as
																											is
																											described,
																											for
																											example,
																											in
																											WO
																											2007/036334.
															 
				
		 EuroPat v2