Übersetzung für "Alignment mark" in Deutsch
The
clearing
frame
is
doped,
for
example,
simultaneously
with
the
implantation
of
an
alignment
mark.
Beispielsweise
wird
der
Ritzrahmen
gleichzeitig
mit
der
Implantation
einer
Justiermarke
dotiert.
EuroPat v2
This
also
applies
for
the
searching
for
the
alignment
mark
9
via
the
electron
beam.
Dies
gilt
auch
beim
Suchen
der
Justiermarke
9
durch
den
Elektronenstrahl.
EuroPat v2
In
addition,
a
workpiece
alignment
mark
is
situated
on
the
workpiece.
Auf
dem
Werkstück
ist
ferner
eine
Werkstück-Ausrichtmarkierung
angeordnet.
EuroPat v2
3A,
with
an
alignment
mark
obtained
from
the
mean
of
the
two
marks
associated
to
the
chip
fields.
3A
mit
einer
Justiermarke,
die
durch
Mittelung
der
den
Chipfeldern
zugeordneten
beiden
Marken
entstanden
ist.
EuroPat v2
The
processing
tool
via
which
the
object
alignment
mark
is
detectable
is
situated
on
the
second
object.
Am
zweiten
Objekt
ist
das
Bearbeitungswerkzeug
angeordnet,
über
das
die
Objekt-Ausrichtmarkierung
detektierbar
ist.
EuroPat v2
A
processing
tool
via
which
the
object
alignment
mark
is
detectable
is
situated
on
the
second
object.
Am
zweiten
Objekt
ist
ein
Bearbeitungswerkzeug
angeordnet,
über
das
die
Objekt-Ausrichtmarkierung
detektiert
wird.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
a
mask
for
imaging
a
pattern
on
a
photoresist
layer,
with
at
least
one
alignment
mark,
to
a
method
of
making
such
a
mask,
and
use
of
these
masks
for
making
semiconductor
components.
Die
Erfindung
betrifft
eine
Maske
zur
Abbildung
eines
Musters
auf
einer
Photoresistschicht
mit
mindestens
einer
Justiermarke,
einem
Verfahren
zur
Herstellung
einer
solchen
Maske
und
Verwendung
dieser
Masken
zur
Herstellung
von
Halbleiterbauelementen.
EuroPat v2
Mask
as
claimed
in
claim
1,
characterized
in
that
the
alignment
mark
is
arranged
in
that
area
of
the
mask
which
corresponds
to
the
border
lines
on
the
semiconductor
wafer.
Maske
nach
Anspruch
1,
dadurch
gekennzeichnet,
daß
die
Justiermarke
in
dem
Bereich
der
Maske,
der
den
Schnittfugen
auf
dem
Halbleiterwafer
entspricht,angeordnet
ist.
EuroPat v2
Mask
according
to
claim
1
characterized
in
that
the
alignment
mark
is
arranged
in
the
area
of
the
border
lines
in
the
corners
of
the
said
individual
chip
fields.
Maske
nach
den
Ansprüchen
1
und
2,
dadurch
gekennzeichnet,
daß
die
Justiermarke
im
Bereich
der
Schnittfugen
in
den
Ecken
der
einzelnen
Chipfelder
angeordnet
ist.
EuroPat v2
DESCRIPTION
Field
of
the
Invention
The
invention
relates
to
a
mask
for
imaging
a
pattern
on
a
photoresist
layer
with
at
least
one
alignment
mark,
to
a
method
of
making
said
mask,
and
to
the
use
of
masks
of
that
type
in
a
photolithographic
process.
Die
Erfindung
betrifft
eine
Maske
zur
Abbildung
eines
Musters,
das
aus
mehreren
Chipfeldern
zusammengesetzt
ist,
auf
einer
Photoresistschicht,
mit
mindestens
einer
Justiermarke
zwischen
mindestens
zwei
benachbarten
Chipfeldern,
eine
Verfahren
zur
Herstellung
dieser
Maske
und
die
Verwendung
von
Masken
dieser
Art
in
einem
photolithographischen
Prozeß.
EuroPat v2
For
this
purpose
it
is
advantageous
to
provide
in
the
image
surface
a
line
element
allocated
to
an
alignment
mark,
extending
parallel
to
the
edges
of
the
window,
with
generation
of
alignment
signals
depending
on
the
distance
the
line
element
from
the
image
of
the
edges
of
the
window
which
are
used
for
the
correction
of
the
image
and/or
object
surfaces
in
a
direction
normal
to
the
line
element,
and
with
generation
of
sharp-focusing
signals
depending
on
the
sharpness
of
an
image
of
the
edges
of
the
window
or
of
the
line
element
which
are
used
for
the
relative
displacement
of
the
image
and
object
surfaces
in
the
direction
of
the
optical
axis.
Erfindungsgemäß
wird
hiezu
vorgesehen,
daß
ein
durch
das
Projektionsobjektiv
rückprojiziertes
Abbild
des
Bildes
der
in
an
sich
bekannter
Weise
als
von
zwei
parallelen
Kanten
begrenztes
Fenster
ausgebildeten
Ausrichtmarke
von
einem
zwischen
Maske
und
Projektionsobjektiv
angeordneten
halbdurchlässigen
Spiegel
auf
eine
Auswerteeinrichtung
geworfen
wird
und
in
einer
Detektionsebene
der
Auswerteeinrichtung
normal
zu
den
Kanten
des
Fensters
abgetastet
wird,
wobei
proportional
zum
Intensitätsverlauf
elektrische
Signale
erzeugt
werden
und
die
Steilheit
der
den
Fensterkanten
entsprechenden
elektrischen
Signale
bestimmt
wird,
deren
Wert
zur
Steuerung
der
relativen
Position
von
Maske
und
Werkstück
in
Richtung
der
optischen
Achse
ausgewertet
wird.
EuroPat v2
The
rays
impinging
from
the
illuminating
device
1
upon
an
alignment
mark
3,
designed
as
a
window
with
at
least
two
parallel
edges,
are
reflected
by
a
semitransparent
mirror
15
disposed
below
the
mask
2
and
are
directed
onto
the
area
of
the
associated
adjustment
mark
8
of
the
substrate
6
via
a
confronting
mirror
14
provided
on
the
underside
of
the
glass
12'.
Die
von
der
Belichtungseinrichtung
1
auf
eine
als
Fenster
mit
zumindest
zwei
parallelen
Kanten
ausgebildete
Ausrichtmarke
3
fallenden
Strahlen
werden
von
einem
unterhalb
der
Maske
2
angeordneten
halbdurchlässigen
Spiegel
15
reflektiert
und
über
einen
Spiegel
14,
welcher
an
der
Unterseite
des
Glases
12'
vorgesehen
ist,
auf
den
Bereich
der
zugehörigen
Justiermarke
8
des
Substrates
6
gelenkt.
EuroPat v2
The
alignment
mark
on
the
border
line
between
these
two
fields
which
has
been
formed
by
taking
the
mean
of
the
marks
of
fields
2
and
3
is
marked
MF2,3.
Die
Justiermarke
auf
der
Schnittfuge
zwischen
diesen
beiden
Feldern,
die
durch
Mittelung
aus
den
Marken
der
Felder
2
und
3
entstanden
ist,
ist
mit
M
F2,3
bezeichnet.
EuroPat v2