Übersetzung für "Deep uv" in Deutsch
																						These
																											mixtures
																											also
																											do
																											not
																											have
																											an
																											adequate
																											sensitivity
																											in
																											the
																											deep
																											UV
																											range.
																		
			
				
																						Auch
																											diese
																											Mischungen
																											haben
																											im
																											tiefen
																											UV-Bereich
																											keine
																											ausreichende
																											Empfindlichkeit.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Particular
																											mention
																											is
																											made
																											of
																											aliphatic
																											sulfoxonium
																											salts
																											which
																											absorb
																											in
																											the
																											deep
																											UV
																											range.
																		
			
				
																						Insbesondere
																											zu
																											erwähnen
																											sind
																											aliphatische
																											Sulfoxoniumsalze,
																											die
																											im
																											tiefen
																											UV-Bereich
																											absorbieren.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											photoresists
																											are
																											preferably
																											used
																											for
																											deep-UV
																											microlithography.
																		
			
				
																						Die
																											Photoresists
																											können
																											bevorzugt
																											für
																											die
																											Tief-UV-Mikrolithographie
																											verwendet
																											werden.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Such
																											resists
																											demonstrate
																											high
																											sensitivity
																											especially
																											in
																											the
																											DUV
																											range
																											(Deep
																											UV).
																		
			
				
																						Derartige
																											Resists
																											zeigen
																											insbesondere
																											im
																											DUV-Bereich
																											(Deep
																											UV)
																											eine
																											hohe
																											Empfindlichkeit.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						They
																											are
																											therefore
																											ideally
																											suited
																											for
																											application
																											in
																											deep
																											UV
																											lithography.
																		
			
				
																						Sie
																											sind
																											daher
																											ideal
																											für
																											die
																											Anwendung
																											in
																											der
																											Deep/UV-Lithographie
																											geeignet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											resolution
																											capacity
																											that
																											can
																											be
																											obtained
																											with
																											conventional
																											deep
																											UV
																											microlithography,
																											however,
																											has
																											its
																											limits.
																		
			
				
																						Das
																											mit
																											der
																											herkömmlichen
																											Deep
																											UV-Mikrolithographie
																											erreichbare
																											Auflösungsvermögen
																											hat
																											jedoch
																											seine
																											Grenze
																											erreicht.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Such
																											filters
																											or
																											masks
																											are
																											suitable
																											for
																											UV
																											and
																											deep
																											UV
																											wavelengths.
																		
			
				
																						Diese
																											Filter
																											eignen
																											sich
																											für
																											den
																											UV
																											und
																											fernen
																											UV-Bereich.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Particularly
																											in
																											the
																											deep
																											UV
																											range
																											the
																											holmium
																											peaks
																											are
																											affected
																											by
																											the
																											absorbance
																											of
																											the
																											carrier
																											glass.
																		
			
				
																						Insbesondere
																											im
																											tiefen
																											UV-Bereich
																											werden
																											die
																											Holmium-Peaks
																											von
																											der
																											Absorptionskante
																											des
																											Trägerglases
																											überlagert.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						Spectrosil®
																											is
																											ideally
																											suited
																											for
																											windows
																											in
																											Deep
																											UV
																											applications.
																		
			
				
																						Spectrosil®
																											ist
																											ideal
																											für
																											Scheiben
																											bei
																											Anwendungen
																											im
																											tiefen
																											UV-Bereich
																											geeignet.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						The
																											resist
																											RD
																											2000N
																											is
																											used
																											in
																											the
																											deep
																											UV-range
																											(DUV).
																		
			
				
																						Der
																											Resist
																											RD
																											2000N
																											wird
																											im
																											Tief
																											UV-Bereich
																											(DUV)
																											verwendet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Such
																											dimensions
																											can
																											be
																											manufactured
																											with
																											the
																											assistance
																											of
																											electron
																											beam
																											lithography
																											or
																											deep
																											UV
																											lithography.
																		
			
				
																						Derartige
																											Abmessungen
																											sind
																											mit
																											Hilfe
																											von
																											Elektronenstrahllithographie
																											oder
																											Deep-UV-Lithographie
																											herstellbar.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											addition,
																											their
																											low
																											lithographic
																											sensitivity
																											and
																											the
																											restriction
																											to
																											irradiation
																											wavelengths
																											in
																											the
																											deep
																											UV
																											light
																											range
																											are
																											disadvantageous.
																		
			
				
																						Außerdem
																											ist
																											nachteilig
																											ihre
																											niedrige
																											lithographische
																											Empfindlichkeit
																											und
																											die
																											Beschränkung
																											auf
																											Bestrahlungswellenlängen
																											im
																											tiefen
																											UV-Licht.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											dish
																											is
																											covered
																											with
																											a
																											glass
																											plate
																											(deep
																											UV
																											filter,
																											cut-off
																											310
																											nm).
																		
			
				
																						Die
																											Schale
																											wird
																											mit
																											einer
																											Glasplatte
																											(Tief-UV-Filter,
																											Cut-off
																											310nm)
																											abgedeckt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											Petri
																											dish
																											is
																											covered
																											with
																											a
																											glass
																											plate
																											(deep
																											UV
																											filter,
																											??310
																											nm).
																		
			
				
																						Die
																											Petrischale
																											wird
																											mit
																											einer
																											Glasplatte
																											(Tief-UV-Filter,
																											1
																											?
																											310
																											nm)
																											abgedeckt.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Our
																											UV
																											Deep
																											Clean
																											-
																											process
																											combines
																											powerful
																											UV-oxidation
																											with
																											the
																											catalytic
																											properties
																											of
																											titanium
																											dioxide.
																		
			
				
																						Unser
																											UV
																											Deep
																											Clean
																											-
																											Verfahren
																											verbindet
																											eine
																											leistungsfähige
																											UV-Oxidation
																											mit
																											der
																											katalytischen
																											Wirkung
																											von
																											Titandioxid.
															 
				
		 ParaCrawl v7.1
			
																						The
																											first
																											ESPRIT
																											project
																											ran
																											from
																											1988
																											to
																											1991,
																											and
																											led
																											to
																											the
																											development
																											of
																											a
																											248
																											nanometre
																											wavelength
																											Deep
																											UV
																											(DUV)
																											wafer
																											stepper.
																		
			
				
																						Das
																											erste
																											ESPRITProjekt
																											lief
																											von
																											1988
																											bis
																											1991
																											und
																											führte
																											zur
																											Entwicklung
																											eines
																											Wafersteppers
																											mit
																											einer
																											DUV
																											(Deep
																											UV)
																											Wellenlänge
																											von
																											248
																											Nanometem.
															 
				
		 EUbookshop v2
			
																						However,
																											because
																											of
																											the
																											weak
																											absorptions
																											of
																											the
																											photolytic
																											acid
																											donor
																											and
																											its
																											inadequate
																											bleaching
																											properties,
																											and
																											also
																											their
																											low
																											sensitivity
																											in
																											the
																											deep
																											UV,
																											such
																											mixtures
																											are
																											unsuitable
																											for
																											uses
																											in
																											this
																											range
																											and
																											also
																											for
																											electron
																											and
																											X-ray
																											radiation.
																		
			
				
																						Solche
																											Mischungen
																											sind
																											aber
																											infolge
																											der
																											schwachen
																											Absorptionen
																											des
																											photolytischen
																											Säurespenders
																											und
																											seines
																											unzureichenden
																											Ausbleichverhaltens
																											sowie
																											ihrer
																											geringen
																											Empfindlichkeit
																											im
																											tiefen
																											UV
																											für
																											Anwendungen
																											in
																											diesem
																											Bereich,
																											wie
																											auch
																											für
																											Elektronen-
																											und
																											Röntgenstrahlung,
																											ungeeignet.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											spite
																											of
																											the
																											numerous
																											inventions
																											and
																											improvements
																											in
																											this
																											field,
																											no
																											material
																											is
																											currently
																											known
																											which
																											suggests
																											heat-stable
																											radiation-sensitive
																											negative-working
																											mixtures
																											which
																											can
																											be
																											developed
																											under
																											aqueous-alkaline
																											conditions
																											and
																											in
																											which
																											a
																											high
																											sensitivity
																											in
																											the
																											deep
																											UV
																											range,
																											by
																											means
																											of
																											low-corroding
																											photolytically
																											generated
																											acids,
																											is
																											linked
																											with
																											a
																											high
																											resolution.
																		
			
				
																						Trotz
																											der
																											zahlreichen
																											Erfindungen
																											und
																											Verbesserungen
																											auf
																											diesem
																											Gebiet
																											ist
																											derzeit
																											kein
																											Material
																											bekannt,
																											das
																											wäßrig-alkalisch
																											entwickelbare,
																											thermisch
																											stabile
																											strahlungsempfindliche
																											negativ
																											arbeitende
																											Gemische
																											vorschlägt,
																											in
																											denen
																											hohe
																											Empfindlichkeit
																											im
																											tiefen
																											UV-Bereich
																											mittels
																											wenig
																											korrodierender
																											photolytisch
																											erzeugter
																											Säuren
																											verknüpft
																											ist
																											mit
																											hoher
																											Auflösung.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											polymers
																											are
																											characterized
																											by
																											high
																											transparency
																											both
																											in
																											the
																											near
																											and
																											the
																											deep
																											UV
																											range,
																											and
																											are
																											therefore
																											particularly
																											well
																											suited
																											for
																											use
																											in
																											high-contrast
																											DUV
																											photoresists,
																											for
																											example
																											for
																											exposures
																											with
																											KrF
																											excimer
																											laser
																											exposure
																											devices
																											(at
																											a
																											wave
																											length
																											of
																											248
																											nm).
																		
			
				
																						Die
																											Polymere
																											zeichnen
																											sich
																											durch
																											eine
																											hohe
																											Transparenz
																											sowohl
																											im
																											nahen
																											als
																											auch
																											im
																											tiefen
																											UV-Bereich
																											aus
																											und
																											eignen
																											sich
																											daher
																											in
																											hervorragender
																											Weise
																											für
																											die
																											Verwendung
																											in
																											Hochkontrast-DUV-Photoresists,
																											beispielsweise
																											für
																											Belichtungen
																											mit
																											KrF-Excimerlaser-Belichtungsgeräten
																											(bei
																											einer
																											Wellenlänge
																											von
																											248
																											nm).
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Owing
																											to
																											the
																											high
																											sensitivity
																											and
																											the
																											high
																											optical
																											transparency
																											or,
																											in
																											other
																											words,
																											the
																											low
																											optical
																											absorption
																											in
																											the
																											UV
																											range
																											around
																											250
																											nm,
																											they
																											are
																											especially
																											suitable
																											for
																											microlithography
																											applications,
																											especially
																											deep
																											UV
																											microlithography.
																		
			
				
																						Dank
																											der
																											hohen
																											Empfindlichkeit
																											und
																											der
																											hohen
																											optischen
																											Transparenz
																											bzw.
																											der
																											geringen
																											optischen
																											Absorption
																											im
																											UV-Bereich
																											um
																											250
																											nm
																											eignen
																											sie
																											sich
																											insbesondere
																											für
																											Anwendungen
																											in
																											der
																											Mikrolithographie,
																											vor
																											allem
																											der
																											Tief-UV-Mikrolithographie.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Owing
																											to
																											the
																											high
																											sensitivity
																											and
																											the
																											high
																											optical
																											transparency
																											or,
																											in
																											other
																											words,
																											the
																											low
																											optical
																											absorption
																											in
																											the
																											UV
																											range
																											around
																											250
																											nm,
																											they
																											are
																											especially
																											suitable
																											for
																											use
																											in
																											microlithography,
																											especially
																											for
																											use
																											in
																											deep
																											UV
																											microlithography.
																		
			
				
																						Dank
																											der
																											hohen
																											Empfindlichkeit
																											und
																											der
																											hohen
																											optischen
																											Transparenz
																											bzw.
																											der
																											geringen
																											optischen
																											Absorption
																											im
																											UV-Bereich
																											um
																											250
																											nm
																											eignen
																											sie
																											sich
																											insbesondere
																											für
																											Anwendungen
																											in
																											der
																											Mikrolithographie,
																											vor
																											allem
																											der
																											Tief-UV-Mikrolithographie.
															 
				
		 EuroPat v2