Übersetzung für "Submicron" in Deutsch
																						A
																											process
																											for
																											producing
																											structures
																											in
																											the
																											submicron
																											range
																											is
																											characterized
																											by
																											the
																											following
																											steps:
																		
			
				
																						Ein
																											Verfahren
																											zur
																											Strukturerzeugung
																											im
																											Submikron-Bereich
																											ist
																											durch
																											folgende
																											Schritte
																											gekennzeichnet:
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											invention
																											relates
																											to
																											a
																											process
																											for
																											producing
																											structures
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Die
																											Erfindung
																											betrifft
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											Strukturerzeugung
																											im
																											Submikron-Bereich.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						This
																											invention
																											concerns
																											a
																											process
																											for
																											making
																											masks
																											with
																											structures
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Die
																											Erfindung
																											betrifft
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											Herstellung
																											von
																											Masken
																											mit
																											Strukturen
																											im
																											Submikrometerbereich.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Submicron
																											structures
																											of
																											marked
																											resolution
																											with
																											high
																											edge
																											steepness
																											are
																											obtained.
																		
			
				
																						Es
																											werden
																											deutlich
																											aufgelöste
																											Submikronstrukturen
																											mit
																											hoher
																											Flankensteilheit
																											erhalten.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						This
																											marked
																											contrast
																											behaviour
																											of
																											the
																											resist
																											promotes
																											the
																											resolution
																											of
																											submicron
																											structures.
																		
			
				
																						Dieses
																											grosse
																											Kontrastverhalten
																											des
																											Resists
																											fördert
																											die
																											Auflösung
																											von
																											Submikronstrukturen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						For
																											patterns
																											in
																											the
																											submicron
																											range
																											an
																											electron
																											beam
																											exposure
																											is
																											used.
																		
			
				
																						Für
																											Muster
																											im
																											Submikronbereich
																											wird
																											eine
																											Elektronenstrahlbelichtung
																											vorgenommen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											invention
																											relates
																											to
																											a
																											method
																											for
																											the
																											photolithographic
																											production
																											of
																											structures
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Die
																											Erfindung
																											betrifft
																											ein
																											Verfahren
																											zur
																											photolithographischen
																											Strukturerzeugung
																											im
																											Submikron-Bereich.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											invention
																											relates
																											to
																											a
																											photoresist
																											for
																											the
																											production
																											of
																											structures
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Die
																											Erfindung
																											betrifft
																											einen
																											Photoresist
																											zur
																											Strukturerzeugung
																											im
																											Submikron-Bereich.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						The
																											resulting
																											resist
																											material
																											permits
																											the
																											resolution
																											of
																											submicron
																											structures.
																		
			
				
																						Das
																											erhaltene
																											Resistmaterial
																											erlaubt
																											die
																											Auflösung
																											von
																											Submikronstrukturen.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Active
																											substances
																											can
																											in
																											some
																											cases
																											be
																											reduced
																											to
																											particle
																											sizes
																											in
																											the
																											submicron
																											range
																											by
																											conventional
																											processes.
																		
			
				
																						Durch
																											konventionelle
																											Verfahren
																											lassen
																											sich
																											Wirkstoffe
																											zum
																											Teil
																											auf
																											Partikelgrößen
																											im
																											Submikronbereich
																											zerkleinern.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						Minimum
																											lateral
																											dimensions
																											in
																											the
																											submicron
																											range
																											can
																											be
																											attained
																											with
																											somewhat
																											lower
																											heights.
																		
			
				
																						Bei
																											etwas
																											geringeren
																											Höhen
																											lassen
																											sich
																											auch
																											minimale
																											laterale
																											Abmessungen
																											im
																											Submikrometerbereich
																											realisieren.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						With
																											somewhat
																											smaller
																											heights,
																											it
																											is
																											also
																											possible
																											to
																											attain
																											minimum
																											lateral
																											dimensions
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Bei
																											etwas
																											geringeren
																											Höhen
																											lassen
																											sich
																											auch
																											minimale
																											laterale
																											Abmessungen
																											im
																											Submikrometerbereich
																											realisieren.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						With
																											somewhat
																											lower
																											heights,
																											it
																											is
																											even
																											possible
																											to
																											realize
																											minimum
																											lateral
																											dimensions
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Bei
																											etwas
																											geringeren
																											Höhen
																											lassen
																											sich
																											auch
																											minimale
																											laterale
																											Abmessungen
																											im
																											Submikrometerbereich
																											realisieren.
															 
				
		 EuroPat v2
			
																						In
																											this
																											case,
																											the
																											resolution
																											of
																											the
																											microstructuring
																											can
																											lie
																											in
																											the
																											micrometer
																											range
																											and
																											possibly
																											in
																											the
																											submicron
																											range.
																		
			
				
																						Dabei
																											kann
																											die
																											Auflösung
																											der
																											Mikrostrukturierung
																											im
																											Mikrometerbereich
																											und
																											auch
																											im
																											Submikrometerbereich
																											liegen.
															 
				
		 EuroPat v2