Translation of "Chemical vapor deposition" in German
Tungsten
hexafluoride
is
used
in
the
production
of
semiconductors
through
the
process
of
chemical
vapor
deposition.
Wolframhexafluorid
wird
im
Prozess
der
Chemischen
Gasphasenabscheidung
in
der
Herstellung
von
Halbleitern
eingesetzt.
Wikipedia v1.0
The
coating
is
carried
out
by
spraying,
by
chemical
vapor
deposition,
or
by
electron
beam
sputtering
techniques.
Die
Beschichtung
erfolgt
durch
Zerstäuben,
durch
chemische
Dampfabscheidung
oder
durch
Elektronenstrahlverdampfungstechniken.
EuroPat v2
Alternatively,
the
silicon
dioxide
may
be
formed
by
means
of
chemical
vapor
deposition.
Alternativ
kann
diese
Siliciumdioxidschicht
auch
mittels
chemischer
Aufdampfung
gebildet
werden.
EuroPat v2
The
nitride
lining
is
formed
by
low-pressure
chemical
vapor
deposition
(LPCVD),
for
example.
Die
Nitridauskleidung
wird
beispielsweise
durch
chemische
Niederdruck-Dampfabscheidung
(LPCVD)
gebildet.
EuroPat v2
This
layer
is
applied
by
chemical
vapor
deposition.
Diese
Schicht
wird
mittels
Chemischer
Gasphasenabscheidung
aufgetragen.
EuroPat v2
However,
polysilicon
and
tungsten
can
be
deposited
using
chemical
vapor
deposition.
Polysilizium
und
Wolfram
können
jedoch
mit
chemical
vapor
deposition
abgeschieden
werden.
EuroPat v2
The
coating
process
selected
for
this
example
is
the
PECVD
(Plasma
Enhanced
Chemical
Vapor
Deposition)
method.
Als
Beschichtungsprozeß
wurde
das
PECVD
(Plasma
Enhanced
Chemical
Vapor
Deposition)-Verfahren
gewählt.
EuroPat v2
A
distinction
is
made
between
physical
and
chemical
vapor
deposition.
Man
unterscheidet
zwischen
physikalischer
und
chemischer
Gasphasenabscheidung.
EuroPat v2
The
method
of
claim
2
wherein
said
SiO2
masking
layer
is
formed
by
chemical
vapor
deposition.
Verfahren
nach
Anspruch
2,
wobei
die
SiO?-Maskierungsschicht
durch
Aufdampfen
abgelagert
wird.
EuroPat v2
Chemical
vapor
deposition
(CVD)
Chemisches
Beschichten
(Chemical
vapor
deposition,
CVD)
ParaCrawl v7.1
Most
vacuum
magnetron
sputtering
and
chemical
vapor
deposition
two
kinds
of
production
.
Die
meisten
Vakuum
-Magnetron-Sputtern
und
chemische
Gasphasenabscheidung
zwei
Arten
der
Produktion.
ParaCrawl v7.1
It
is
also
possible
to
use
more
than
two
starting
materials
in
chemical
vapor
deposition.
Bei
der
chemischen
Gasphasenabscheidung
können
auch
mehr
als
zwei
Ausgangsmaterialien
zum
Einsatz
kommen.
EuroPat v2
Examples
of
CVD
methods
are
spray
pyrolysis,
chemical
vapor
deposition,
and
sol-gel
deposition.
Beispiele
für
CVD-Verfahren
sind
Sprühpyrolyse,
chemische
Dampfabscheidung
und
Sol-Gel-Abscheidung.
EuroPat v2
This
may
likewise
take
place
by
means
of
chemical
vapor
deposition
in
a
sputtering
process.
Dies
kann
ebenfalls
mittels
Gasphasenabscheidung
in
einem
Sputter-Verfahren
erfolgen.
EuroPat v2
These
layers
can
be
produced,
for
example,
by
means
of
chemical
vapor
deposition
(CVD).
Diese
Schichten
lassen
sich
beispielsweise
über
Chemical
Vapor
Deposition
(CVD)
herstellen.
EuroPat v2
The
parylene
coating
is
created
by
chemical
vapor
deposition.
Die
Parylene-Beschichtung
wird
mittels
einer
chemischen
Gasphasenabscheidung
erzeugt.
EuroPat v2
Such
a
layer
can
be
applied,
for
example,
by
plasma-enhanced
or
chemical
vapor
deposition
methods.
Eine
solche
Schicht
kann
beispielsweise
durch
plasmaunterstützte
oder
chemische
Aufdampfungsverfahren
aufgebracht
werden.
EuroPat v2
Chemical
vapor
deposition
allows
pore-free
coating
of
complex
surfaces
having
a
three-dimensional
structure.
Die
chemische
Gasphasenabscheidung
ermöglicht
eine
porenfreie
Beschichtung
von
komplexen,
dreidimensional
geformten
Oberflächen.
EuroPat v2
On
the
patterned
front
electrode
layer
there
is
subsequently
applied
the
semiconductor
layer
for
example
by
chemical
vapor
deposition.
Auf
der
strukturierten
Frontelektrodenschicht
wird
anschließend
beispielsweise
durch
chemische
Dampfabscheidung
die
Halbleiterschicht
aufgetragen.
EuroPat v2
The
user
may
be,
for
example,
a
reactor
for
chemical
vapor
deposition
(CVD).
Ein
solcher
Verbraucher
ist
beispielsweise
ein
Reaktor
zur
chemischen
Dampfabscheidung
(CVD).
EuroPat v2
A
layer
can
also
be
applied
by
means
of
chemical
vapor
deposition
(CVD).
Auch
das
Aufbringen
einer
Schicht
mittels
chemischer
Dampfphasenabscheidung
(CVD)
ist
möglich.
EuroPat v2
For
example,
the
layer
may
be
deposited
by
means
of
plasma-pulse
induced
chemical
vapor
deposition
(PICVD).
Beispielsweise
kann
die
Schicht
mittels
Plasmaimpuls-induzierter
chemischer
Dampfphasenabscheidung
(PICVD)
abgeschieden
werden.
EuroPat v2