Translation of "Plasma processing" in German
The
processing
areas
in
the
plasma
processing
equipment
can
also
use
different
processing
methods
in
connection
with
this.
Die
Bearbeitungsgebiete
in
den
Plasmabearbeitungsanlagen
können
hierbei
auch
unterschiedliche
Bearbeitungsverfahren
nutzen.
EuroPat v2
The
overall
gas
flow
is
normally
significantly
lower
than
is
the
case
in
plasma
processing
systems.
Der
Gesamtgasfluss
ist
dabei
normalerweise
deutlich
niedriger
als
in
Plasmabearbeitungsanlagen.
EuroPat v2
Gas
mixtures
may
also
be
used
for
plasma
processing.
Auch
Gasgemische
können
zur
Plasmaprozessierung
eingesetzt
werden.
EuroPat v2
A
plasma
for
processing
workpieces
is
typically
ignited
and
maintained
in
a
plasma
chamber.
Ein
Plasma
zur
Bearbeitung
von
Werkstücken
wird
typischerweise
in
einer
Plasmakammer
gezündet
und
aufrecht
erhalten.
EuroPat v2
A
plasma
for
the
processing
of
workpieces
is
typically
ignited
and
maintained
in
a
plasma
chamber.
Ein
Plasma
zur
Bearbeitung
von
Werkstücken
wird
typischerweise
in
einer
Plasmakammer
gezündet
und
aufrecht
erhalten.
EuroPat v2
A
plasma
for
processing
workpieces
is
typically
ignited
in
a
plasma
chamber
and
maintained.
Ein
Plasma
zur
Bearbeitung
von
Werkstücken
wird
typischerweise
in
einer
Plasmakammer
gezündet
und
aufrecht
erhalten.
EuroPat v2
It
is
possible
to
realize
a
large
area
of
homogenous
plasma
processing
by
the
uninterrupted
microwave
plasma.
Mit
dem
ununterbrochenen
Mikrowellenplasma
ist
es
möglich,
einen
großen
Bereich
homogener
Plasmabearbeitung
zu
realisieren.
EuroPat v2
A
plasma
for
processing
work
pieces
is
typically
ignited
in
a
plasma
chamber
and
maintained
there.
Ein
Plasma
zur
Bearbeitung
von
Werkstücken
wird
typischerweise
in
einer
Plasmakammer
gezündet
und
aufrecht
erhalten.
EuroPat v2
Together
with
such
a
tool
a
conventional
machine
tool
for
the
plasma
processing
of
a
workpiece
can
be
used.
Mit
einem
solchen
Werkzeug
kann
eine
herkömmliche
Werkzeugmaschine
für
die
Plasmabearbeitung
eines
Werkstücks
verwendet
werden.
EuroPat v2
Accordingly,
the
use
of
the
described
tool
10
is
not
limited
to
the
plasma
processing
of
a
workpiece
surface.
Die
Verwendung
des
beschriebenen
Werkzeugs
10
ist
dementsprechend
nicht
auf
die
Plasmabearbeitung
einer
Werkstückoberfläche
beschränkt.
EuroPat v2
Various
gases
in
combination
with
different
pressures
and
magnetic
field
strengths
are
suitable
for
efficient
plasma
processing.
Für
eine
effiziente
Plasmaprozessierung
eignen
sich
unterschiedliche
Gase
in
Kombination
mit
unterschiedlichen
Drücken
und
Magnetfeldstärken.
EuroPat v2
An
expanded
embodiment
of
this
method
is
the
so-called
plasma
processing,
which
is
charactrized
by
the
fact
that
the
process
is
conducted
in
a
vacuum
to
increase
the
kinetic
energy
of
the
ions
and
electrons
in
the
electrical
field.
Eine
erweiterte
Ausführungsvariante
obiger
Verfahren
stellt
die
sogenannte
Plasmabehandlung
dar,
die
dadurch
gekennzeichnet
ist,
daß
zwecks
Steigerung
der
kinetischen
Energie
der
Ionen
und
Elektronen
im
elektrischen
Feld
der
Prozeß
im
Vakuum
durchgeführt
wird.
EuroPat v2
It
was
found
that
with
the
first
plasma
processing,
the
back
side
of
the
substrate
is
untolerably
contaminated.
Es
wird
nun
erkannt,
dass
bei
der
ersten
Plasmabehandlung
die
Rückseite
des
Werkstückes
unzulässig
kontaminiert
wird.
EuroPat v2
The
invention
relates
to
an
apparatus
for
generating
a
plasma
by
inductive
coupling
of
high
frequency
(HF)
energy
for
the
plasma-supported
processing
of
substrates.
Die
Erfindung
bezieht
sich
auf
eine
Vorrichtung
zur
Plasmaerzeugung
durch
induktive
Einkopplung
von
Hochfrequenz
(HF)-Energie
für
die
plasmaunterstützte
Bearbeitung
von
Substraten.
EuroPat v2
This
is
typically
in
the
kHz
or
MHz
frequency
range,
with
a
voltage
of
100
to
1000
V
(R.
Reif
in:
handbook
of
Plasma
Processing
Technology,
Noyes,
N.J.,
1990,
p.
269
ff.).
Diese
liegt
typischerweise
im
kHz
oder
MHz-Frequenzbereich
mit
einer
Spannung
von
100
bis
1000
V
(R.
Reif,
in:
Handbook
of
Plasma
Processing
Technology,
Noyes,
New
Yersey,
1990,
S.
269
ff.).
EuroPat v2
What
is
claimed
is:
An
apparatus
for
plasma-enhanced
processing
of
substrates,
having
a
recipient
in
which
ions
and
reactive
neutral
particles
(radicals)
which
are
generated
in
a
plasma
of
a
certain
plasma
volume
acting
on
a
substrate,
comprising
at
least
one
electrical/magnetic
field
generating
arrangement,
which
fields
influence
the
kinematic
of
the
ions
generated
in
the
plasma,
said
arrangement
comprising:
Vorrichtung
zur
plasmaunterstützten
Bearbeitung
von
Substraten,
mit
einem
Rezipienten,
in
dem
im
Plasma
gebildete
Ionen
und
reaktive
Neutralteilchen
(Radikale)
auf
das
Substrat
einwirken,
und
wenigstens
einer
elektrischen
sowie
magnetischen
Felderzeugungseinrichtung,
deren
Felder
das
Ausbreitungsverhalten
der
im
Plasma
gebildeten
Ionen
beeinflussen,
dadurch
gekennzeichnet,
daß
zwei
senkrecht
zueinander
angeordnete
Elektrodenpaare
mit
jeweils
veränderbarem
Elektrodenabstand
und
zwei
Magnetfeldanordnungen
vorgesehen
sind,
deren
veränderbare
Magnetfelder
sich
senkrecht
schneiden
und
von
denen
ein
Magnetfeld
parallel
zur
Substratoberfläche
orientiert
ist.
EuroPat v2
The
present
invention
relates
to
an
apparatus
for
plasma-enhanced
processing
of
substrates
having
a
recipient
in
which
ions
and
reactive
neutral
particles
(radicals)
formed
in
the
plasma
act
on
the
substrate.
Die
Erfindung
bezieht
sich
auf
eine
Vorrichtung
zur
plasmaunterstützten
Bearbeitung
von
Substraten,
mit
einem
Rezipienten,
in
dem
im
Plasma
gebildete
Ionen
und
reaktive
Neutralteilchen
(Radikale)
auf
das
Substrat
einwirken.
EuroPat v2
Apparatuses
of
this
type
for
plasma-enhanced
processing
are
utilized
both
in
the
removal
as
well
as
in
the
deposition
of
material
from,
respectively
on,
semiconductor,
metal,
glass
or
plastic
substrates.
Derartige
Vorrichtungen
zur
plasmaunterstützten
Bearbeitung
werden
sowohl
zum
Abtragen
als
auch
zum
Auftragen
von
Material
von
bzw.
auf
Halbleiter-,
Metall,
Glas-
oder
Kunststoffsubstrate
verwendet.
EuroPat v2
An
element
of
the
present
invention
is
that
it
was
understood
that,
in
apparatuses
for
plasma-enhanced
processing
of
substrates
having
a
recipient
in
which
ions
and
reactive
neutral
particles
(radicals)
formed
in
the
plasma
act
on
the
substrate,
the
results
of
the
processing
are
determined
not
only
by
the
absolute
value
of
the
ionic
and
radical
current
densities
on
the
surface
of
the
substrate,
but
also
by
the
ratio
r
of
the
ionic
to
the
radical
current
densities
r=jion
/jrad.
Erfindungsgemäß
ist
nun
erkannt
worden,
daß
bei
Vorrichtungen
zur
plasmaunterstützten
Bearbeitung
von
Substraten,
mit
einem
Rezipienten,
in
dem
im
Plasma
gebildete
Ionen
und
reaktive
Neutralteilchen
(Radikale)
auf
das
Substrat
einwirken,
das
Bearbeitungsergebnis
nicht
nur
von
den
Absolutwerten
der
Ionen-
und
Radikalenstromdichten
auf
der
Oberfläche
des
Substrats,
sondern
auch
vom
Verhältnis
r
von
Ionen-
zu
Radikalenstromdichten
r=j
ion
/j
rad
bestimmt
wird.
EuroPat v2
In
the
state
of
the
art
apparatuses
for
plasma-enhanced
processing
of
substrates
having
a
recipient
in
which
ions
and
reactive
neutral
particles
(radicals)
formed
in
the
plasma
act
on
the
substrate,
as
they
are
by
way
of
illustration
known
from
the
afore-mentioned
publications,
it
is
however
not
possible
to
adjust
the
ionic
and
radical
current
densities
in
a
concerted
manner.
Bei
den
bekannten
Vorrichtungen
zur
plasmaunterstützten
Bearbeitung
von
Substraten,
mit
einem
Rezipienten,
in
dem
im
Plasma
gebildete
Ionen
und
reaktive
Neutralteilchen
auf
das
Substrat
einwirken,
wie
sie
beispielsweise
aus
den
vorstehend
genannten
Druckschriften
bekannt
sind,
ist
eine
gezielte
Einstellung
der
Ionen-
und
Radikalenstromdichten
dagegen
nicht
möglich.
EuroPat v2